[发明专利]润滑膜形成方法、具备润滑膜的滑动体、磁记录介质、磁头滑块和硬盘驱动器有效
申请号: | 200710104888.3 | 申请日: | 2007-05-24 |
公开(公告)号: | CN101079270A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | 富元诚;村越龙太;苏立志;清野浩 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社;新科实业有限公司 |
主分类号: | G11B5/725 | 分类号: | G11B5/725;G11B5/84;G11B5/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 润滑 形成 方法 具备 滑动 记录 介质 磁头 硬盘驱动器 | ||
1.一种润滑膜形成方法,其特征在于,
具备:在基材的表面涂布具有OH基的润滑剂的工序,以及对涂 布的所述润滑剂照射激发所述OH基的OH键的振动的红外激光的激 光照射工序,
所述润滑剂是在末端具有OH基的链状氟化聚醚,
在所述激光照射工序中,照射波长0.9~1.1μm或波长2.7~3.0μm 的红外激光。
2.如权利要求1所述的润滑膜形成方法,其特征在于,
在所述激光照射工序中进行多光子吸收,并照射所述红外激光以 使得在所述基材的表面或所述润滑剂中所述基材侧的部分上形成所述 红外激光的焦点。
3.如权利要求1所述的润滑膜形成方法,其特征在于,
使用透过了均化器的红外激光作为所述红外激光。
4.如权利要求1~3的任一项所述的润滑膜形成方法,其特征在 于,
所述润滑剂形成2nm以下的厚度的层。
5.如权利要求1~3的任一项所述的润滑膜形成方法,其特征在 于,
所述红外激光的照射强度为60J/cm2以下。
6.如权利要求1~3的任一项所述的润滑膜形成方法,其特征在 于,
照射红外脉冲激光作为所述红外激光,激光的强度为60J/cm2以 下,脉冲宽度为0.1~1ms,脉冲数为1~10,脉冲的频率为10~50Hz。
7.如权利要求1~3的任一项所述的润滑膜形成方法,其特征在 于,
在照射所述红外激光时,将所述基材的表面温度维持在200℃以 下。
8.如权利要求1~3的任一项所述的润滑膜形成方法,其特征在 于,
所述基材的表面由碳材料形成。
9.一种磁记录介质的制造方法,其特征在于,
对涂布在磁记录介质的表面的润滑剂,进行如权利要求1~3的任 一项所述的润滑膜形成方法。
10.一种磁头滑块的制造方法,其特征在于,
对涂布在磁头滑块的表面的润滑剂,进行如权利要求1~3的任一 项所述的润滑膜形成方法。
11.一种润滑膜形成方法,其特征在于,
具备:在基材的表面涂布具有在碳原子上结合的OH基的润滑剂 的工序,以及仅对涂布有所述润滑剂的基材的表面的一部分,照射激 发所述OH基的OH键的振动的红外激光,仅在所述基材的表面的一 部分上形成润滑膜的激光照射工序,
所述润滑剂是在末端具有OH基的链状氟化聚醚,
在所述激光照射工序中,照射波长0.9~1.1μm或波长2.7~3.0μm 的红外激光。
12.如权利要求11所述的润滑膜形成方法,其特征在于,
在所述激光照射工序中进行多光子吸收,并照射所述红外激光以 使得在所述基材的表面或所述润滑剂中所述基材侧的部分形成所述红 外激光的焦点。
13.如权利要求11所述的润滑膜形成方法,其特征在于,
使用透过了均化器的红外激光作为所述红外激光。
14.如权利要求11~13的任一项所述的润滑膜形成方法,其特征 在于,
涂布在所述基材的表面的所述润滑剂的层为2nm以下的厚度。
15.如权利要求11~13的任一项所述的润滑膜形成方法,其特征 在于,
所述红外激光的照射强度为60J/cm2以下。
16.如权利要求11~13的任一项所述的润滑膜形成方法,其特征 在于,
照射红外脉冲激光作为所述红外激光,所述红外脉冲激光的强度 为60J/cm2以下,脉冲宽度为0.1~1ms,脉冲数为1~10,脉冲的频率 为10~50Hz。
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