[发明专利]防反射构造体及包括该防反射构造体的光学装置无效
申请号: | 200710104990.3 | 申请日: | 2007-05-15 |
公开(公告)号: | CN101074998A | 公开(公告)日: | 2007-11-21 |
发明(设计)人: | 山田和宏;田村隆正;吉川智延;山口博史;石丸和彦 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/10 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 | 代理人: | 孙敬国;张惠萍 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 构造 包括 光学 装置 | ||
1.一种防反射构造体,用于抑制规定波长以上的光的反射,其特征在于:
该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面,该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着,该表面构成为:它的表面粗糙度大于所述规定波长,且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度的平均值在5度以上。
2.根据权利要求1所述的防反射构造体,其特征在于:
所述防反射构造体使所述反射被抑制的光透过。
3.根据权利要求1所述的防反射构造体,其特征在于:
所述每个微小凹凸部,是大致呈锥体状的凹部和凸部,或者是细长状的凹部和细长状的凸部。
4.根据权利要求1所述的防反射构造体,其特征在于:
用由ISO4287:1997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度大于所述规定波长。
5.根据权利要求1所述的防反射构造体,其特征在于:
用由SO4287:1997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于100μm。
6.根据权利要求1所述的防反射构造体,其特征在于:
用由SO4287:1997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于50μm。
7.根据权利要求1所述的防反射构造体,其特征在于:
用由SO4287:1997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于30μm。
8.根据权利要求1所述的防反射构造体,其特征在于:
所述多个微小凹凸部在所述基准面的法线方向上的高度相互大致相等。
9.根据权利要求1所述的防反射构造体,其特征在于:
所述表面,基本上由该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度在90度以下的面构成。
10.根据权利要求1所述的防反射构造体,其特征在于:
所述多个微小凹凸部中的每个微小凹凸部都是锥体状凹部或者锥体状凸部,将所述多个微小凹凸部的每个微小凹凸部的底部中心和顶部连接起来形成的中心轴大致相互平行。
11.根据权利要求1所述的防反射构造体,其特征在于:
所述多个微小凹凸部中的每个微小凹凸部的高度都在所述反射被抑制的光的波长的0.4倍以上。
12.一种光学装置,其特征在于:
包括权利要求1所述的防反射构造体。
13.一种防反射构造体,用于抑制规定波长以上的光的反射,其特征在于:
该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面,该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着,该表面构成为:它的表面粗糙度大于所述规定波长,且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度分布的峰值大于0度。
14.根据权利要求13所述的防反射构造体,其特征在于:
所述防反射构造体使所述反射被抑制的光透过。
15.根据权利要求13所述的防反射构造体,其特征在于:
所述每个微小凹凸部,是大致呈锥体状的凹部和凸部,或者是细长状的凹部和细长状的凸部。
16.根据权利要求13所述的防反射构造体,其特征在于:
用由SO4287:1997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度大于所述规定波长。
17.根据权利要求13所述的防反射构造体,其特征在于:
用由SO4287:1997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于100μm。
18.根据权利要求13所述的防反射构造体,其特征在于:
用由SO4287:1997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于50μm。
19.根据权利要求13所述的防反射构造体,其特征在于:
用由SO4287:1997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于30μm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710104990.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。