[发明专利]喜树碱类似物及其制备方法

权利要求书

1.一种呈外消旋形式、对映异构体富集形式或对映异构体纯形式的通式(2)的化合物或其药学上可接受的盐：

其中R¹和R²各是相同的或不同的，为氢，-C(O)R^f，其中R^f是烷基、烷氧基、氨基或羟基，烷基，链烯基，炔基，烷氧基，芳氧基，酰氧基，-OC(O)OR^d，其中R^d是烷基，-OC(O)NR^aR^b，其中R^a和R^b各自是相同的或不同的，为H、-C(O)R^f、烷基或芳基，卤素，羟基，硝基，氰基，叠氮基，甲酰基，肼基，氨基，-SR^c，其中R^c是氢、-C(O)R^f、烷基或芳基；或R¹和R²一起形成具有选自CH、CH₂、O、S、NH或NR¹⁵的三个或四个节的链，其中R¹⁵是C₁-C₆烷基；

R³是H、卤素、硝基、氨基、羟基或氰基；或R²和R³结合在一起形成具有选自CH、CH₂、O、S、NH或NR¹⁵的三个或四个节的链，其中R¹⁵是C_1-6烷基；

R⁴是H、F、氨基、C_1-3烷基、C_2-3链烯基、C_2-3炔基、三烷基甲硅烷基或C_1-3烷氧基；

R⁵是C_1-10烷基、烯基、炔基或苄基；

R⁶是-Si(R⁸R⁹R¹⁰)或-(R⁷)Si(R⁸R⁹R¹⁰)，其中R⁷是亚烷基、亚烯基或亚炔基；R⁸、R⁹和R¹⁰独立地是C_1-10烷基，C_2-10链烯基，C_2-10炔基，芳基或-(CH₂)_NR¹¹，其中N是1-10范围里的整数，R¹¹是羟基，烷氧基，氨基，烷基氨基，二烷基氨基，卤素原子，氰基，SR^c或硝基；

R¹²是H或-C(O)R^f、-C(O)OR^d或-C(O)NR^aR^b；

R¹³是H、F或-CH₃。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中R²和R³一起形成-O(CH₂)_nO-基团，其中n代表整数1或2。

3.根据权利要求1所述的化合物，其中R⁵是乙基，烯丙基，苄基或炔丙基。

4.根据权利要求1所述的化合物，其中R¹³是H。

5.根据权利要求4所述的化合物，其中R⁵是乙基。

6.根据权利要求5所述的化合物，其中R⁴是H。

7.根据权利要求6所述的化合物，其中R⁸和R⁹是甲基，R¹⁰是叔丁基或甲基，R¹是H，R³是H。

8.根据权利要求7所述的化合物，其中R²是H、NH₂或OH。