[发明专利]曝光装置以及曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光装置以及曝光方法，更详细地说，涉及用于制造半导体、液晶显示板、等离子显示器等大型平板显示器时的曝光装置以及曝光方法。

背景技术

就现有的曝光装置来说，众所周知，是在使掩模(掩模原版)和基片(晶片)接近的状态下，通过掩模照射图案曝光用的光(电子束)，因此将掩模图案曝光复制到基片上的装置。  (例如，参照专利文献1以及2)

众所周知，专利文献1中记载的曝光装置是一种具备配置掩模的二个框体，分别对应于二个框体的装载二个基片的基片装载台，和分别对应于二个基片装载台配置的二个对准机构，并在各自框体和基片装载台组装后的状态，交替地移动曝光位置而进行曝光复制的装载台移动机构。所以，装载台移动机构，是使用二个基片装载台同时进行对准和曝光，谋求缩短作业节拍时间。

另外，专利文献2中记载的曝光装置，配设了对双轴装载台的滑块起减振用的调节器以及减振机构，降低装载台的振动，因此缩短装载台的稳定时间，谋求提高定位精度。

【专利文献1】特开昭63-87725号公报

【专利文献2】特开2005-183876号公报

发明内容

尽管，在专利文献1中记载的曝光装置，利用二个基片装载台同时进行基片的曝光复制和向基片装载台搬入和搬出基片来谋求缩短作业节拍时间，但是并没有不考虑到有关搬入搬出基片时发生的振动，此振动有可能给曝光精度影响，所以有更加改善的余地。

另外，专利文献2记载的曝光装置，虽减少了一台基片装载台上的残留振动，达到了缩短装载台的稳定时间，但并没有考虑到有关搬入搬出基片时发生的振动，对利用二个基片装载台方面也没有记载。

本发明就是鉴于上述的课题而做出发明，其目的是提供一种能够同时对基片进行曝光复制和向基片装载台搬入或搬出基片，达到缩短作业节拍时间，同时消除搬入搬出基片时发生的振动影响曝光精度，而且能以高精度进行曝光复制的曝光装置以及曝光方法。

本发明的上述目的通过下述的结构而得以实现。(1)一种曝光装置，其特征在于具备：保持掩模的掩模装载台、位于掩模装载台下方的主床台、配置在主床台侧方面的第一辅助床台以及第二辅助床台、主床台和第一辅助床台间可移动的第一基片装载台、主床台和第二辅助床台间可移动的第二基片装载台、将通过掩模照射将图案曝光用的光照射到位于主床台上面的第一及第二基片装载台所保持的基片上的照射装置、以及防止第一辅助床台和第二辅助床台所产生的振动传到主床台的防振机构。

(2)如(1)中所记载的曝光装置，其特征在于防振机构具备：分别可嵌合地设置在主床台和第一及第二辅助床台间所形成的楔形空间、或者第一及第二辅助床台所形成的楔形空间内，并具有倾斜面的第一及第二床台部件，和沿上下方向驱动第一及第二床台部件的致动器。

(3)如(1)中所记载的曝光装置，其特征在于防振机构具备：将主床台和第一及第二辅助床台间的各相对面作为倾斜面，沿上下方向驱动主床台的致动器。

(4)如(1)～(3)中的任一项所记载的曝光装置，其特征在于防振机构具有：配置在主床台的下方，可支持主床台的防振部件。

(5)一种使用曝光装置的曝光方法，所述曝光装置具备保持掩模的掩模装载台、位于掩模装载台下方的主床台、配置在主床台侧面的第一辅助床台和第二辅助床台、主床台和第一辅助床台间可移动的第一基片装载台、主床台和第二辅助床台间可移动的第二基片装载台、通过上述掩模，将图案曝光用的光照射到位于主床台上面的第一和第二基片装载台所保持的基片上的照射装置、防止将第一辅助床台和第二辅助床台所产生的振动传达到主床台的防振机构，其特征在于，将掩模的掩模图案曝光复制到位于主床台上面的第一基片装载台所保持的基片上的第一曝光工序，对第一曝光工序中位于第二辅助床台上面的第二基片装载台搬入及搬出基片的第一搬入搬出工序、分别使第一基片装载台移动到第一辅助床台上面，使第二基片装载台移动到主床台上面的第一移动工序、第一移动工序后，驱动防振机构的第一驱动工序；将掩模的掩模图案曝光复制到位于主床台上面的第二基片装载台所保持的基片上的第二曝光工序、对第二曝光工序中位于第一辅助床台上面的第一基片装载台搬入及搬出基片的第二搬入搬出工序、分别使第一基片装载台移动到主床台上面、第二基片装载台移动到第二辅助床台上面的第二移动工序、以及第二移动工序后，驱动防振机构的第二驱动工序，第一驱动工序是防止第二曝光工序中由于第二搬入搬出工序而将第二辅助床台产生的振动传达到主床台，第二驱动工序是防止第一曝光工序中由于第一搬入搬出工序而将第二辅助床台产生的振动传达到主床台。