[发明专利]光学记录介质、信息记录方法、及信息再现方法无效
申请号: | 200710105868.8 | 申请日: | 2007-06-01 |
公开(公告)号: | CN101083099A | 公开(公告)日: | 2007-12-05 |
发明(设计)人: | 高泽孝次;森田成二;梅泽和代;森下直树;大寺泰章;安东秀夫;中村直正 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11B7/258 | 分类号: | G11B7/258 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈源;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 记录 介质 信息 方法 再现 | ||
1.一种光学记录介质(100),特征在于包括:
第一记录部分(L0),包括一个其中的信息被预定波长的光记录/再现的第一记录层(105)和一个第一反光层(106),并且被放置在靠近接收光的表面的一侧上;和
第二记录部分(L1),包括一个其中的信息被光记录/再现的第二记录层(107)和一个第二反光层(108),并且被放置在比所述第一记录部分(L0)远离所述接收光的表面的一侧上,所述第一记录部分(L0)和所述第二记录部分(L1)被以光的行进方向层叠,
其中所述第一反光层(106)的厚度小于所述第二反光层(108)的厚度。
2.根据权利要求1的光学记录介质,其特征在于所述第一反光层(106)的厚度是大于或等于15nm并且是小于或等于35nm。
3.根据权利要求1的光学记录介质,其特征在于所述第二反光层(108)的厚度是大于或等于60nm并且是小于或等于150nm。
4.根据权利要求1的光学记录介质,其特征在于所述第二记录部分(L1)包括通过所述光的施加而变形或变化的一个部分。
5.根据权利要求1的光学记录介质,特征在于所述第一反光层(106)和/或所述第二反光层(108)包括一种银合金。
6.一种使用光学记录介质的记录方法,特征在于所述光学记录介质包括:
第一记录部分(L0),包括一个其中的信息被预定波长的光记录/再现的第一记录层(105)和一个第一反光层(106),并且被放置在靠近接收光的表面的一侧上;和
第二记录部分(L1),包括一个其中的信息被光记录/再现的第二记录层(107)和一个第二反光层(108),并且被放置在比所述第一记录部分(L0)远离所述接收光的表面的一侧上,所述第一记录部分(L0)和所述第二记录部分(L1)被以光的行进方向层叠,
其中所述第一反光层(106)的厚度小于所述第二反光层(108)的厚度,所述记录方法包括步骤:
在所述第一记录部分(L0)和/或所述第二记录部分(L1)中记录信息。
7.一种使用光学记录介质的再现方法,特征在于所述光学记录介质包括:
第一记录部分(L0),包括一个其中的信息被预定波长的光记录/再现的第一记录层(105)和一个第一反光层(106),并且被放置在靠近接收光的表面的一侧上;和
第二记录部分(L1),包括一个其中的信息被光记录/再现的第二记录层(107)和一个第二反光层(108),并且被放置在比所述第一记录部分(L0)远离所述接收光的表面的一侧上,所述第一记录部分(L0)和所述第二记录部分(L1)被以光的行进方向层叠,
其中所述第一反光层(106)的厚度小于所述第二反光层(108)的厚度,所述再现方法包括步骤:
从所述第一记录部分(L0)和/或所述第二记录部分(L1)中再现信息。
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