[发明专利]光盘设备和记录功率控制方法无效
申请号: | 200710105911.0 | 申请日: | 2007-05-31 |
公开(公告)号: | CN101083094A | 公开(公告)日: | 2007-12-05 |
发明(设计)人: | 碓井隆;黑田和人;上野雅史 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11B7/125 | 分类号: | G11B7/125 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈源;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光盘 设备 记录 功率 控制 方法 | ||
1.一种光盘设备,其特征在于包括:
激光发射元件;
检测单元(FM),其用来检测所述激光发射元件的发射功率;
平均功率测量单元(14,15),其用来在写入操作中测量由所述检测单元检测到的发射功率的平均值,其中在所述写入操作中以记录脉冲来驱动所述激光发射元件并将标记形成在光盘的轨道上;
擦除功率测量单元(12,18),其用来在所述写入操作中对通过反馈控制所控来与目标值保持一致的擦除功率进行测量;
擦除电流测量单元(19,18),在所述激光发射元件以擦除功率发光的同时,所述擦除电流测量单元对驱动该激光发射元件的擦除电流进行测量;
评估单元(80,007),其根据所述平均功率、所述擦除功率、所述擦除电流、和所述记录脉冲的波形来评估所述激光发射元件的电流对发射功率关系特性;以及
控制单元(90,008到010),其根据所述电流对发射功率关系特性来控制在所述写入操作中所述激光发射元件的峰值功率。
2.根据权利要求1所述的光盘设备,其特征在于所述评估单元评估出所述电流对发射功率关系特性为直线,并且进一步评估出实际产生的峰值功率距在所述写入操作中根据所述电流对发射功率关系特性计算出的目标峰值功率的偏移量(108),并且
所述控制单元根据所述偏移量来校正所述实际产生的峰值功率(107)。
3.根据权利要求1或2所述的光盘设备,其特征在于进一步包括一个单元(012),所述单元在所述平均功率与所述擦除功率之间的差等于或小于一个特定值时改变所述记录脉冲的波形的写策略。
4.根据权利要求1到3的任意一个所述的光盘设备,其特征在于所述控制单元根据所述电流对发射功率关系特性来控制在所述写入操作中所述激光发射元件的底值功率(17,18)。
5.一种记录功率控制方法,其特征在于包括步骤:
检测激光发射元件的发射功率(FM),并在写入操作中测量所述检测到的发射功率的平均值(005,15),其中在所述写入操作中以记录脉冲来驱动所述激光发射元件并将标记形成在光盘的轨道上;
在所述写入操作中,对由反馈控制所控来与目标值保持一致的擦除功率进行测量(004,12);
在所述激光发射元件以擦除功率发光的同时,对驱动该激光发射元件的擦除电流进行测量(004,12);
根据所述平均功率、擦除功率、擦除电流、和所述记录脉冲的波形来评估所述激光发射元件的电流对发射功率关系特性(007);以及
根据所述电流对发射功率关系特性来控制在所述写入操作中所述激光发射元件的峰值功率。
6.根据权利要求5所述的记录功率控制方法,其特征在于所述评估电流对发射功率关系特性的步骤包括步骤:评估出所述电流对发射功率关系特性为直线,并且进一步评估出实际产生的峰值功率距在所述写入操作中根据所述电流对发射功率关系特性计算出的目标峰值功率的偏移量ΔPP(108),并且
所述控制峰值功率的步骤包括步骤:根据所述偏移量ΔPP来校正所述实际产生的峰值功率(109)。
7.根据权利要求5所述的记录功率控制方法,其特征在于进一步包括步骤:在所述平均功率与所述擦除功率之间的差等于或小于一个特定值时改变所述记录脉冲的波形的写策略。
8.根据权利要求6所述的记录功率控制方法,其特征在于进一步包括步骤:在所述平均功率与所述擦除功率之间的差等于或小于一个特定值时改变所述记录脉冲的波形的写策略。
9.根据权利要求5所述的记录功率控制方法,其特征在于所述控制峰值功率的步骤包括步骤:根据所述电流对发射功率关系特性来控制在所述写入操作中所述激光发射元件的底值功率。
10.根据权利要求6所述的记录功率控制方法,其特征在于所述控制峰值功率的步骤包括步骤:根据所述电流对发射功率关系特性来控制在所述写入操作中所述激光发射元件的底值功率。
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