[发明专利]用于检测设备的透镜拼接方法及其系统无效

专利信息
申请号: 200710106032.X 申请日: 2007-05-30
公开(公告)号: CN101315470A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 许巍耀;曾释锋;林宇仁 申请(专利权)人: 赖秀惠
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02B7/02
代理公司: 北京天平专利商标代理有限公司 代理人: 张争艳
地址: 中国台湾台北县新庄*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 检测 设备 透镜 拼接 方法 及其 系统
【说明书】:

技术领域

发明系为藉由以一原中心点进行裁切而形成的中央透镜,再进一步藉由将中心点偏移的方式进行裁切而形成的偏移透镜相拼接而形成的拼接式透镜,而将该拼接式透镜运用至玻璃基板、印刷电路基板或晶圆基板等基板的检测,将于受测基板上形成分布均匀的光斑。

背景技术

随着知识信息时代的来临,无论是网络通讯应用的多元化或是现今3C产业技术及多媒体信息的蓬勃发展,无论是传统产业或是科技产业皆是以降低制造成本、增加制造产能或是提升产品品质为目标,并藉此来增加企业的获利以及竞争力。

然而以目前的薄膜液晶显示器为例,为了因应市场需求并以降低制造成本及增加制造产能为目标,现今的薄膜液晶显示器无论是于制程阶段或是成品贩卖的趋势,皆是以逐年增加该面板尺寸来达到或满足上述企业端所欲达到的目的,相较下,逐年增大的面板组件则需要更大的检测仪器来控制或检测该面板的品质;请参阅图10及图11所示,系为检测液晶显示器中玻璃基板的检测系统架构图及检测液晶显示器中玻璃基板的示意图,由图中可以清楚了解一般的检测系统主要包括有测试光源a、反射镜b、透镜c及待测基板d等组件,其中,通常于检测待测基板d的环境中系将可发出测试光源a的光源投影机或光源投射机(图中未出示)及反射镜b架设于天花板或墙面,由光源投射机所发出的测试光源a将可透过反射镜b的反射,再透过透镜c(如菲涅尔镜片(Fresnel lens)或其它凸透镜)来将测试光源a集中于待测基板d上,藉此测试光源a将可透过透镜c将光源集中的特性并于待测基板d上形成如图12的光斑(亦即为比较明亮的斑点);是以,检测人员将可藉由待测基板d上所形成的光斑来做为检测待测基板d表面是否具有缺陷或做为表面微结构组织判断的依据。

再者,上述列举的光源的检测设备不仅可运用于液晶显示器中玻璃基板的检测,亦可运用于如印刷电路基板及晶圆基板等组件基板的表面缺陷检测、表面微结构组织检测或是基板的表面电子零件接合检测等运用领域,然而上述习用技术对于现成组件基板尺寸的检测尚称足够,但是对于目前产业所使用检测尺寸愈来愈大的情况下则显然无法满足其需求,其理由主要乃在于其透镜c的尺寸系需与待测基板d的尺寸成正比,亦即待测基板d尺寸若愈大则与其配合的透镜c的尺寸也愈大;然而,透镜c的成本、重量及其制程的难度却与该透镜c尺寸成等倍增加,是以,针对检测组件基板的相关厂商而言,若欲加大透镜c的尺寸来检测较大的待测基板d,不但难以将加大重量后的透镜c吊置于天花板或墙面,更增加了检测设备的购置成本,再者,若仅是单纯的加大透镜的尺寸来配合日益增大的组件基板,有朝一日相关厂商将无法克服透镜的光学特性。

缘此,上述习用技术的不足,便为从事此行业者所亟欲改善的课题,而有待相关业者作进一步改良与创新设计的必要。

发明内容

今,发明人有鉴于上述检测设备的缺失与不足,故发明人利用此行业的多年研究发明经验,经不断改良与试作,终于发明出简化用于检测设备的透镜拼接方法及其系统。

本发明的主要目的乃在于藉由裁切后的中央透镜与偏移透镜所拼接而成的拼接式透镜,将可透过检测系统中的光源投射机而于待测基板形成较大尺寸的光斑,而藉此透镜的拼接方法不但可以形成光源分布均匀的光斑,亦可减少加大尺寸后的单一透镜的重量以及降低该加大尺寸的透镜的购置成本。

另,本发明的次要目的乃在于若将拼接式透镜运用于相关的检测系统,将可全面照射于欲受测的待测基板,因此于此检测系统检测时将不需移动相关的检测光源或待测基板,如此即可减少设备间所需设置移动组件的轴数,藉此即可有效降低设备制造成本以及减少该受测基板的测试时间。

本发明的用于检测设备的透镜拼接方法包括有:将欲形成于拼接式透镜中央位置的透镜以原中心点进行裁切以形成中央透镜;将欲与中央透镜拼接的透镜以中心点偏移的方式进行裁切以形成偏移透镜;及将中央透镜与偏移透镜进行拼接以形成拼接式透镜;藉上,透过一个或一个以上的中央透镜与相对应偏移透镜的拼接,将可增加拼接式透镜的尺寸。

其中该拼接式透镜可具有一个以上的中央透镜或偏移透镜,且裁切后的偏移透镜与中央透镜的尺寸相同。

其中该偏移透镜与中央透镜间所形成的曲率半径小于中央透镜的宽度。

其中该透镜以中心点偏移进行裁切的方式可为以透镜中心点为基准进行水平向或垂直向的位移。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赖秀惠,未经赖秀惠许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710106032.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top