[发明专利]图案形成方法及其计算机可读介质无效

专利信息
申请号: 200710106775.7 申请日: 2007-06-20
公开(公告)号: CN101093361A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 吉泽惠资;小山利德;赤川雅俊 申请(专利权)人: 新光电气工业株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 顾红霞;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图案 形成 方法 及其 计算机 可读 介质
【权利要求书】:

1.一种用于在对象物的表面上形成图案的图案形成方法,包括:

确定步骤,其确定所述对象物关于与所述对象物的相对移动方向垂直的方向的布置可用范围,以使最大数目的多个预定区域位于稳定曝光区域中,所述预定区域在所述对象物的表面上并沿与所述对象物的所述相对移动方向垂直的方向排列,各个所述稳定曝光区域沿与所述对象物的所述相对移动方向垂直的方向位于各个曝光区域的中心部分,沿所述对象物的所述相对移动方向限定所述曝光区域;以及

设定步骤,其在所确定的布置可用范围内设定所述对象物关于与所述相对移动方向垂直的方向的设置位置,以通过分别分配给所述曝光区域的多个空间光调制元件使位于所述稳定曝光区域中的所述预定区域曝光。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法,还包括:

沿与所述相对移动方向垂直的方向从一侧依次对于所述各个预定区域执行计算处理,

其中,在所述计算处理中,在对于沿与所述相对移动方向垂直的方向与正在计算中的所述预定区域相邻的另一预定区域在前的计算处理中计算出的临时布置范围内计算所述对象物关于与所述相对移动方向垂直的方向的下述临时布置范围:在所述临时布置范围内,正在计算中的所述预定区域位于所述稳定曝光区域中,并且

将下述预定范围排除在对于接下来将要计算的所述临时布置范围的计算处理之外,当所述对象物临时设置于在前的计算处理中计算出的所述临时布置范围内时,所述预定范围不位于所述稳定曝光区域中,并且

其中,将下述临时布置范围确定为所述对象物的所述布置可用范围:所述临时布置范围是通过对于沿与所述相对移动方向垂直的方向排列在所述对象物的表面上的所有一系列预定范围执行所述计算处理而最终计算得出的。

3.根据权利要求1所述的图案形成方法,其中,

在所述对象物沿与所述相对移动方向垂直的方向移动的状态下,对于下述预定区域再次执行所述确定步骤:当所述对象物放置在所述设置位置时,所述预定区域不位于所述稳定曝光区域中,并且

在所确定的布置可用范围内重新设定所述对象物的用于使所述预定区域曝光的所述设置位置。

4.根据权利要求1所述的图案形成方法,其中,

所述预定区域存在于安装在所述对象物的表面上的各个小块中,并且

所述预定区域中的图案以比相同小块中除所述预定区域之外的区域的密度高的密度形成。

5.根据权利要求1所述的图案形成方法,其中,

所述预定区域沿与所述相对移动方向垂直的方向以大致均匀的间隔排列在所述对象物的表面上。

6.根据权利要求1所述的图案形成方法,其中,

所述稳定曝光区域由来自所述空间光调制元件的光稳定地曝光,所述光能够以高密度形成图案。

7.一种具有程序的计算机可读介质,所述程序包括允许计算机执行用于在对象物的表面上形成图案的图案形成处理的指令,所述指令包括:

确定步骤,其确定所述对象物关于与所述对象物的相对移动方向垂直的方向的布置可用范围,以使最大数目的多个预定区域位于稳定曝光区域中,所述预定区域在所述对象物的表面上并沿与所述对象物的所述相对移动方向垂直的方向排列,各个所述稳定曝光区域沿与所述对象物的所述相对移动方向垂直的方向位于各个曝光区域的中心部分,沿所述对象物的所述相对移动方向限定所述曝光区域;以及

设定步骤,其在所确定的布置可用范围内设定所述对象物关于与所述相对移动方向垂直的方向的设置位置,以通过分别分配给所述曝光区域的多个空间光调制元件使位于所述稳定曝光区域中的所述预定区域曝光。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新光电气工业株式会社,未经新光电气工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710106775.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top