[发明专利]水处理设施的管理系统有效
申请号: | 200710108153.8 | 申请日: | 2007-05-30 |
公开(公告)号: | CN101088923A | 公开(公告)日: | 2007-12-19 |
发明(设计)人: | 横井浩人;圆佛伊智朗;原直树 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | C02F1/44 | 分类号: | C02F1/44 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 水处理 设施 管理 系统 | ||
技术领域
本发明涉及净水设施、再生水制造设施等水处理设施的管理系统,尤 其涉及评价设备机器的故障导致的与水质或水量对应的危险性,并根据该 危险性对各机器的维护检修方法及检修频度的设定进行援助的管理系统。
背景技术
近几年,要求供给安全、放心的饮用水,在净水厂中高品质水的稳定 供给变得日益重要。再有,净水膜的技术开发进行开展,即使在大规模的 处理厂中也取代以往的凝结沉淀工艺,而开始导入管理容易的膜处理。另 一方面,作为近年来与缺水对应用的技术,污水再生水的利用也在开展中, 制定了按照用途分类的水质基准。
作为用于提高饮用水或再生水的安全、放心的水质管理,除了使运行 条件最佳化以外,用于防止机器的故障所导致的水质恶化或供给水量下降 的充分的机器管理也是重要的。特别是,由于在净水膜处理中水质或水量 取决于机器的恶化或管理状态的程度高,故机器管理非常重要。
提出一种设定各种成套设备中的机器的维修频度或内容的方法。关于 各种产品的维护诊断,公知以下方法:将已被出厂到规定出厂目的地的机 器作为母集团,根据机器的识别信息、故障发生时间信息等设备保全信息, 进行母集团中的可靠性分析,以进行机器的维修时期的评价(例如参照专 利文献1)。
再有,在原子力设备中,公知以下方法:利用故障造成的影响程度与 发生概率,对机器的维护检修方法和时期的设定进行援助(例如参照专利 文献2)。在该方法中,利用用过去的取得数据构筑成的模型,进行任意的 状态量预测及概率分布的评价。
在此,在专利文献1所描述的方法中,针对设定后形式的机器或零件 进行维修时期的设定,能够提高产品的可靠性。但是,在水道水质管理中, 在想优先维修对水质或水量影响大的机器的情况下,在专利文献1的方法 中存在无法得到用于决定维修对象的机器的优先顺序的问题。
另一方面,在专利文献2中,能够利用影响度与发生概率来设定优先 顺序。但是,专利文献2涉及的是原子力设备,在作为本申请发明的水处 理中,由于原水水质的变动或能连续监视的项目的制约,精度高的模型计 算是困难的。再有,影响度需要采取考虑了多个水质管理项目的方法。进 而,在水道中,需要根据原水的水质变动或设备的更新,定期地改善水质 管理体制,但并未言及持续的运用方法。
【专利文献1】特开2005-327201号公报
【专利文献2】特开2004-240642号公报
发明内容
本发明的目的在于提供一种水处理设施的管理系统,其中由于可以供 给通过利用了膜的水处理而稳定了水质及水量的自来水或再生水,故可以 持续地实施对膜处理设施的设备机器的维护检修频度设定进行的援助。
(1)为了达到上述目的,本发明是一种水处理设施的管理系统,其 对利用膜来处理原水的净水膜处理设施的维持管理进行援助,其中包括: 破损检测机构,其监视膜组件有无破损;差压检测机构,其监视膜间差压; 净水过程数据库,其存储与所述破损检测机构及差压检测机构的测量相关 的信息;管理基准数据库,其存储所述破损检测机构及差压检测机构的测 量项目的管理基准值;改善措施数据库,其存储与所述破损检测机构及差 压检测机构的测量值超过所述管理基准数据库所存储的管理基准值的范 围时进行提示的措施相关的信息;诊断机构,其利用所述破损检测机构及 差压检测机构的测量值、和所述管理基准数据库所存储的管理基准值,对 膜处理设施的运转状态异常进行诊断;和危险优先数评价机构,其利用所 述诊断机构的诊断结果及所述管理基准数据库的信息,计算设备机器的危 险优先数。
根据该构成,可以定量化设备机器的故障发生相关的风险,可以供给 通过利用膜的水处理而稳定了水质及水量的自来水或再生水。
(2)在上述(1)中,优选还包括:维护检修数据库,其存储与设备 机器的维护检修有关的信息;和维护检修频度设定机构,其利用所述维护 检修数据库所存储的信息,根据危险优先数的变化量来控制设备机器的维 护检修的频度。
根据该构成,根据设备机器的故障发生相关的风险,可以构筑适当的 维护检修体制。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710108153.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。