[发明专利]具有彩色像素阵列的硅基液晶显示装置及其制作方法

权利要求书

1.一种具有彩色像素阵列的硅基液晶显示装置的制作方法，其包括有：

提供半导体基底；

于该半导体基底上依序形成第一反射层、第一彩色滤光层、第二反射层以及第二彩色滤光层；

于该第二彩色滤光层上形成第一图案层，其包括第一曝像区域；

以该第一图案层为掩模，移除部分该第二彩色滤光层与部分该第二反射层，并在该第二彩色滤光层内形成第一开口；

移除该第一图案层；以及

于该第一开口内形成第一平坦层，以平坦化该半导体基底表面。

2.如权利要求1所述的制作方法，其中移除该部分该第二彩色滤光层以及该第二反射层的方法包括：

以该第一图案层为掩模，移除部分该第二彩色滤光层，直至暴露出该第二反射层；以及

以该第一图案层为掩模，移除部分该第二反射层，直至暴露出该第一彩色滤光层。

3.如权利要求1所述的制作方法，其中该方法在形成该第二反射层之前，另包括先于该第一彩色滤光层上形成第一缓冲层。

4.如权利要求3所述的制作方法，其中该第一缓冲层包括相同于该第一彩色滤光层的材料。

5.如权利要求3所述的制作方法，其中该第一缓冲层的材料包括环氧树脂。

6.如权利要求1所述的制作方法，其中该方法另包括有：

于该第一平坦层表面与该第二彩色滤光层上依序形成第三反射层以及第三彩色滤光层：

于该第三彩色滤光层上形成第二图案层，其包括第二曝像区域与该第一曝像区域；

以该第二图案层为掩模，移除部分该第三彩色滤光层与部分该第三反射层，并形成第二开口；以及

于该第二开口内形成第二平坦层，以平坦化该半导体基底表面。

7.如权利要求6所述的制作方法，其中该第一曝像区域与该第二曝像区域分别对应于该半导体基底上的至少一第一次像素与至少一第二次像素，剩余的该第三彩色滤光层则对应于该半导体基底上的至少一第三次像素。

8.如权利要求6所述的制作方法，其中该第三反射层包括金属材料。

9.如权利要求6所述的制作方法，其中该方法在形成该第三反射层之前，另包括先于该第二彩色滤光层表面形成第二缓冲层。

10.如权利要求1所述的制作方法，其中该第一反射层包括：

像素电极，对应于该第一曝像区域；以及

至少一接触元件设于该第一曝像区域之外的该半导体基底上。

11.如权利要求10所述的制作方法，其中该方法另包括在该第一彩色滤光层内形成接触插塞，对应于该接触元件，且该接触插塞是用来电连接该接触元件以及该第二反射层。

12.如权利要求11所述的制作方法，其中形成该接触插塞的步骤包括有：

移除部分该第一彩色滤光层，以于该接触元件上的该第一彩色滤光层中形成接触洞；以及

于该接触洞填入导电材料，以形成该接触插塞。

13.如权利要求1所述的制作方法，其中该第一反射层与该第二反射层分别包括金属材料。

14.如权利要求1所述的制作方法，其中该第一平坦层包括该第一彩色滤光层的材料。

15.如权利要求1所述的制作方法，其中该第一彩色滤光层与该第二彩色滤光层可将自然光过滤，以分别提供波长范围不相同的第一色光与第二色光。

16.如权利要求15所述的制作方法，其中该第一色光与该第二色光分别为蓝光与绿光、蓝光与红光、或者绿光与红光。

17.如权利要求1所述的制作方法，其中该方法另包括在该半导体基底上形成配向膜。

18.如权利要求17所述的制作方法，其中该方法另包括有：

提供透明基板，其表面具有透明导电层；

组合该透明基板与该半导体基底；以及

于该透明基板与该半导体基底之间灌入液晶材料。

19.如权利要求1所述的制作方法，其中该第一彩色滤光层与该第二彩色滤光层分别包括无机分色膜材料。