[发明专利]混成材料组合物、包含其的可挠曲透明薄膜及光电器件

权利要求书

1.一种用于制造高透光度、高耐热、低热膨胀系数的可挠曲透明薄膜的 混成材料组合物，其由

a.二氧化硅(SiO₂)；

b.聚酰亚胺；

c.硅氧烷表面活性剂；以及

d.有机溶剂

组成，

其中，预先利用该有机溶剂溶解该二氧化硅(SiO₂)，且该二氧化硅(SiO₂在该有机溶剂中的固含量小于40％；

并且，该混成材料组合物中该二氧化硅(SiO₂)与聚酰亚胺的重量比介于 1∶9至9∶1之间。

2.如权利要求1所述的用于制造高透光度、高耐热、低热膨胀系数的 可挠曲透明薄膜的混成材料组合物，其中该二氧化硅(SiO₂)与聚酰亚胺的重 量比介于2∶8至9∶1之间。

3.如权利要求1所述的用于制造高透光度、高耐热、低热膨胀系数的 可挠曲透明薄膜的混成材料组合物，其中该硅氧烷表面活性剂具有极性官 能团。

4.如权利要求3所述的用于制造高透光度、高耐热、低热膨胀系数的 可挠曲透明薄膜的混成材料组合物，其中该具有极性官能团的硅氧烷表面 活性剂为氨基硅氧烷。

5.如权利要求1所述的用于制造高透光度、高耐热、低热膨胀系数的 可挠曲透明薄膜的混成材料组合物，其中该聚酰亚胺具有如式(I)所示的结 构：

式(I)

其中，n大于1；

G为一种以上的多环的环烷基、杂环基、具有一个以上不饱和键的环 烷基及杂环基、芳基、杂芳基、脂族基、环脂二烯基、芳烷基或是杂芳烷 基，而每个环具有3到8个环原子，且每个环原子上的氢，可被卤素、烷 基、烷氧基、烷烯基、烷炔基、烯氧基、炔氧基或芳香基所取代，其中烷 基、烷氧基、烷烯基、烷炔基、烯氧基或炔氧基含有1-12个碳原子，其为 直链或支链；以及

A为多环的环烷基、杂环基、具有一个以上不饱和键的环烷基及杂环 基、芳基、杂芳基、脂族基、环脂二烯基、芳烷基或是杂芳烷基，而每个 环具有3到8个环原子，且每个环原子上的氢，可被卤素、烷基、烷氧基、 烷烯基、烷炔基、烯氧基、炔氧基或芳香基所取代，其中烷基、烷氧基、 烷烯基、烷炔基、烯氧基或炔氧基含有1-12个碳原子，其为直链或支链。

6.一种可挠曲透明薄膜，该薄膜是使用下述用于制造高透光度、高耐 热、低热膨胀系数的可挠曲透明薄膜的混成材料组合物制成的，所述用于 制造高透光度、高耐热、低热膨胀系数的可挠曲透明薄膜的混成材料组合 物由a.二氧化硅(SiO₂)；b.聚酰亚胺；c.硅氧烷表面活性剂以及d.有机溶 剂组成，其中，预先利用该有机溶剂溶解该二氧化硅(SiO₂)，且该二氧化硅 (SiO₂)在该有机溶剂中的固含量小于40％，而且该混成材料组合物中该二氧 化硅(SiO₂)与聚酰亚胺的重量比介于1∶9至9∶1之间。

7.如权利要求6所述的可挠曲透明薄膜，其中该二氧化硅(SiO₂)与聚酰 亚胺的重量比介于2∶8至9∶1之间。

8.如权利要求6所述的可挠曲透明薄膜，其中该硅氧烷表面活性剂具 有极性官能团。

9.如权利要求6所述的可挠曲透明薄膜，其中该具有极性官能团的硅 氧烷表面活性剂为氨基硅氧烷。