[发明专利]透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材

权利要求书

1.透明被膜形成涂料，其特征在于，含有以下成分：

(A)金属氧化物微粒或者二氧化硅微粒，该金属氧化物微粒或者二氧化硅微粒的表面用下式(1)

R_n-SiX_4-n     (1)

所示的有机硅化合物进行了表面处理，且表面电荷量(Q_A)在7～80μeq/g的范围内，式中，R为碳数1～10的非取代或取代烃基，可以相同也可以不同，X：碳数1～4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢，n：0～3的整数；

(B)基质形成成分，该基质形成成分含有疏水性基质形成成分，所述疏水性基质形成成分包括下式(2)

R_n’-SiX_4-n’    (2)

所示的有机硅化合物或其水解物、水解缩聚物，及/或具有疏水性官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂，式中，R为碳数1～10的非取代或取代烃基，可以相同也可以不同，X：碳数1～4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢，n’：1～3的整数；

(C)极性溶剂；

其中，金属氧化物微粒或者二氧化硅微粒(A)的作为固形成分的浓度(C_PA)在0.1～20重量％的范围内，基质形成成分(B)的作为固形成分的浓度(C_M)在1～50重量％的范围；

所述金属氧化物微粒或者二氧化硅微粒(A)的平均粒径在10～100nm的范围内。 

2.如权利要求1所述的透明被膜形成涂料，其特征在于，所述基质形成成分含有疏水性基质的同时，还含有亲水性基质形成成分，该亲水性基质形成成分包括下式(3)

SiX₄    (3)

所示的有机硅化合物或其水解物、水解缩聚物，或者具有亲水性官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂，式中，X：碳数1～4的烷氧基、硅烷醇基、卤素、氢，

亲水性基质形成成分的作为固形成分的浓度(C_MA)与疏水性基质形成成分的作为固形成分的浓度(C_MB)的浓度比(C_MA)/(C_MB)在0.01～1的范围内。

3.如权利要求1或者2所述的透明被膜形成用涂料，其特征在于，还含有表面电荷量(Q_B)在25～100μeq/g范围内的金属氧化物微粒(B)，金属氧化物微粒(B)的表面电荷量(Q_B)与金属氧化物微粒或者二氧化硅微粒(A)的表面电荷量(Q_A)之差(Q_B)-(Q_A)在20～95μeq/g的范围内。

4.如权利要求3所述的透明被膜形成用涂料，其特征在于，所述金属氧化物微粒(B)的作为固形成分的浓度(C_PB)在0.1～20重量％的范围内。

5.如权利要求4所述的透明被膜形成用涂料，其特征在于，所述金属氧化物微粒(B)的平均粒径在5～500nm的范围内。

6.如权利要求1所述的透明被膜形成用涂料，其特征在于，所述疏水性官能基选自(甲基)丙烯酰基、烷基、苯基、尿烷基、CF₂基的1种以上。

7.如权利要求2所述的透明被膜形成用涂料，其特征在于，所述亲水官能基选自羟基、氨基、羧基、磺基、缩水甘油基的1种以上。