[发明专利]曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种适用于将掩模的掩模图案以分割逐次曝光方式接近(靠近)曝光复制到液晶显示器或等离子显示器等大型平板显示器的基板上的曝光装置。

背景技术

以前，制造液晶显示器装置或等离子显示器装置等平板显示器装置的滤色器的曝光装置具有各种方案(例如，参照日本专利文献1以及2)。专利文献1记载的曝光装置使用比作为被曝光件的基板小的掩模，将该掩模保持在掩模装载台上同时将基板保持在工件装载台上并使两者接近地相对配置。并且，在这种状态下通过使工件装载台相对于掩模步进移动，每移动一步即从掩模一侧向基板上照射图案曝光用的光，把涂绘在掩模上的多个掩模图案曝光复制到基板上，从而在一片基板上制成了多个显示器等。另外，相对配置基板和掩模时，基板的定位动作完毕后，一边使用间隙传感器检测出基板和掩模的间隙，一边对目标间隙进行调整动作。

另外，专利文献2记载的曝光装置，在基板的移动路径的途中设置了非接触型测量装置和闸门，当基板在未被测量装置检测出的位置上要与掩模接触时，基板和金属制的闸门接触，因而掩模得到保护。

[专利文献1]特开2000-35676号公报

[专利文献2]特开2004-272139号公报

可是，随着近年的平板显示器装置的大型化，制造滤色器的掩模也变大起来(例如，1400mm×1200mm)，每片掩模的价格也增加了。

为此，期望可靠地防止因基板和掩模接触而造成掩模破损。

专利文献1记载的曝光装置，一边检测出基板和掩模的间隙，一边进行间隙调整，由于采用非接触型的间隙传感器而产生读取误差，或由于操作错误等导致基板有可能和掩模接触。

另外，专利文献2记载的曝光装置，由于使用非接触型的间隙传感器也存在上述问题，同时在基板与闸门接触时，操作者有必要确认之后再控制工件装载台的移动。

发明内容

本发明就是鉴于上述情况而作出的发明，其目的在于提供一种能够可靠防止掩模破损的曝光装置。

本发明的上述目的通过下述结构而得以实现。

(1)一种曝光装置，具有：保持作为被曝光件的基板的工件装载台；与基板相对配置并保持掩模的掩模装载台；通过掩模向基板照射图案曝光用的光的照射单元；以及输送机构，使工件装载台和掩模装载台相对地步进移动，以使掩模的掩模图案与基板上的多个规定位置相对，其特征在于，所述曝光装置具有：激光监视装置，具有发光部和接收该激光束的受光部，该发光部发射出大致在水平方向上通过保持在掩模装载台上的掩模与保持在工件装载台上的基板之间的规定位置的激光束；和控制装置，当该受光部接收到的激光束的受光量变成规定值以下时，使掩模装载台和所述工件装载台中的至少一方停止上下方向的移动。

(2)一种曝光装置，具有：保持作为被曝光件的基板的工件装载台；与基板相对配置并保持掩模的掩模装载台；

通过掩模向基板照射图案曝光用的光的照射单元；以及输送机构，使工件装载台和掩模装载台相对地步进移动，以使掩模的掩模图案与基板上的多个规定位置相对，其特征在于，所述曝光装置具有：激光监视装置，具有配置在掩模装载台上的所述掩模的边缘部附近并向基板发射出激光束的发光部和接收被基板反射的激光束的受光部，通过测量保持在掩模装载台上的掩模与保持在工件装载台上的基板之间的间隙来监视该间隙；和控制装置，当间隙变成规定值以下时，使掩模装载台和所述工件装载台中的至少一方停止上下方向的移动。

根据本发明，当通过激光监视装置检测出掩模和基板之间的间隙在规定值以下时，控制装置使掩模装载台和工件装载台中的至少一方停止上下方向的移动，所以能够在曝光时避免靠近的掩模和基板发生接触，从而可靠地防止了掩模的破损。

附图说明

图1是部分分解本发明的第一实施方式的分割逐次接近曝光装置的立体图。

图2是掩模装载台部分的放大立体图。

图3(a)是图2的III-III线的剖视图，(b)是(a)的掩模位置调整单元的上视图。

图4是说明工件侧对准标记的照射光学系统的说明图。

图5是表示对准图像的焦距调整机构的结构图。

图6是表示对准照相机和该对准照相机的焦点调整机构的基本构造的侧视图。

图7是图1所示的分割逐次接近曝光装置的正视图。

图8是图1所示的分割逐次接近曝光装置的电气结构的方框图。

图9是图1所示的掩模装载台的底视图。

图10是说明检测出第2实施方式的曝光装置的掩模和基板的间隙的状态的说明图。