[发明专利]带图纹的人造大理石的制造方法无效
申请号: | 200710112284.3 | 申请日: | 2007-06-29 |
公开(公告)号: | CN101117009A | 公开(公告)日: | 2008-02-06 |
发明(设计)人: | 尹正洙 | 申请(专利权)人: | 尹正洙;智山M-TECK株式会社 |
主分类号: | B29C41/32 | 分类号: | B29C41/32;B29C41/30;B29C41/34;B29L31/10 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张兆东 |
地址: | 韩国仁*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带图纹 人造 大理石 制造 方法 | ||
1.一种带图纹的人造大理石的制造方法,其包括下列步骤:
经由一固定的主喷嘴将单色或混色的丙烯酸人造大理石主浆在以预定速度输送的膜上涂覆一预定的厚度;
将一图纹喷嘴下降到在该图纹喷嘴下方输送的所述膜上所涂覆的主浆的底部,所述图纹喷嘴安装在输送的膜的上方,使其能够间歇性地升降移动;然后,使图纹喷嘴上升,同时将与主浆具有不同颜色的图纹浆喷射到主浆中,以产生预定的图纹;以及
使具有预定厚度的带图纹的人造大理石浆固化,其中,图纹浆被喷射到主浆中以产生预定的图纹;然后进行切割,切成预定的尺寸并且进行打磨,从而获得带图纹的人造大理石。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于尹正洙;智山M-TECK株式会社,未经尹正洙;智山M-TECK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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