[发明专利]石英制品的烘焙方法、计算机程序和存储介质

权利要求书

1.一种石英制品的烘焙方法，该石英制品被配置在收纳半导体基板并进行热处理的热处理装置的反应容器内，至少一部分被置于反应容器内的热处理气氛中，其特征在于，包括：

将处理前的石英制品配置在反应容器内的工序；和

对反应容器进行加热，并且向反应容器内供给烘焙用气体的工序，该烘焙用气体包含氯化氢气体和用于提高该氯化氢气体的反应性的气体，

通过将在石英制品的制造过程中被污染的铜除去，从表面直至30μm深度的铜浓度成为20ppb以下。

2.如权利要求1所述的石英制品的烘焙方法，其特征在于：

从表面直至30μm深度的铜浓度为3ppb以下。

3.如权利要求1所述的石英制品的烘焙方法，其特征在于：

石英制品具有与半导体基板直接接触的部位，

在与半导体直接接触的部位，从表面直至1μm深度的铜浓度为10ppb以下。

4.一种石英制品的烘焙方法，该石英制品被配置在收纳半导体基板并进行热处理的热处理装置的反应容器内，至少一部分被置于反应容器内的热处理气氛中，其特征在于，包括：

将处理前的石英制品配置在反应容器内的工序；和

对反应容器进行加热，并且向反应容器内供给烘焙用气体的工序，该烘焙用气体包含氯化氢气体和用于提高该氯化氢气体的反应性的气体，

通过将在石英制品的制造过程中被污染的铜除去，从表面直至10μm深度的铜浓度成为10ppb以下。

5.如权利要求4所述的石英制品的烘焙方法，其特征在于：

从表面直至10μm深度的铜浓度为3ppb以下。

6.如权利要求1或4所述的石英制品的烘焙方法，其特征在于：

通过将石英制品配置在反应容器内，将石英制品作为热处理装置的一部分装入。

7.如权利要求1或4所述的石英制品的烘焙方法，其特征在于：

在800～1000℃的温度下加热反应容器。

8.一种计算机程序，用于使计算机执行对被配置在收纳半导体并进行热处理的热处理装置的反应容器内、至少一部分被置于反应容器内的热处理气氛中的石英制品进行烘焙的方法，其特征在于：

石英制品的烘焙方法包括：

将处理前的石英制品配置在反应容器内的工序；和

对反应容器进行加热，并且向反应容器内供给烘焙用气体的工序，该烘焙用气体包含氯化氢气体和用于提高该氯化氢气体的反应性的气体，

通过将在石英制品的制造过程中被污染的铜除去，从表面直至30μm深度的铜浓度成为20ppb以下。

9.一种计算机程序，用于使计算机执行对被配置在收纳半导体并进行热处理的热处理装置的反应容器内、至少一部分被置于反应容器内的热处理气氛中的石英制品进行烘焙的方法，其特征在于：

石英制品的烘焙方法包括：

将处理前的石英制品配置在反应容器内的工序；和

对反应容器进行加热，并且向反应容器内供给烘焙用气体的工序，该烘焙用气体包含氯化氢气体和用于提高该氯化氢气体的反应性的气体，

通过将在石英制品的制造过程中被污染的铜除去，从表面直至10μm深度的铜浓度成为10ppb以下。

10.一种存储介质，存储有一种计算机程序，该计算机程序用于使计算机执行对被配置在收纳半导体并进行热处理的热处理装置的反应容器内、至少一部分被置于反应容器内的热处理气氛中的石英制品进行烘焙的方法，其特征在于：

石英制品的烘焙方法包括：

将处理前的石英制品配置在反应容器内的工序；和

对反应容器进行加热，并且向反应容器内供给烘焙用气体的工序，该烘焙用气体包含氯化氢气体和用于提高该氯化氢气体的反应性的气体，

通过将在石英制品的制造过程中被污染的铜除去，从表面直至30μm深度的铜浓度成为20ppb以下。

11.一种存储介质，存储有一种计算机程序，该计算机程序用于使计算机执行对被配置在收纳半导体并进行热处理的热处理装置的反应容器内、至少一部分被置于反应容器内的热处理气氛中的石英制品进行烘焙的方法，其特征在于：

石英制品的烘焙方法包括：

将处理前的石英制品配置在反应容器内的工序；和

对反应容器进行加热，并且向反应容器内供给烘焙用气体的工序，该烘焙用气体包含氯化氢气体和用于提高该氯化氢气体的反应性的气体，

通过将在石英制品的制造过程中被污染的铜除去，从表面直至10μm深度的铜浓度成为10ppb以下。