[发明专利]磁记录介质和磁记录装置无效

专利信息
申请号: 200710112695.2 申请日: 2007-06-27
公开(公告)号: CN101101758A 公开(公告)日: 2008-01-09
发明(设计)人: 白鸟聪志;樱井正敏;镰田芳幸;喜喜津哲 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B5/65 分类号: G11B5/65
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 杨晓光;李峥
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 记录 介质 装置
【说明书】:

技术领域

本发明的一个实施例涉及一种磁记录介质和磁记录装置。

背景技术

近些年来,为了处理磁记录介质的更高的密度,离散磁道记录介质(DTR介质)吸引了注意力。在所述DTR介质中,相邻的记录磁道被非磁性材料隔离以降低在其间的磁干扰。当制造这样的离散磁道记录介质时,期望通过使用压模压印与形成记录磁道的磁性膜图形一起形成对应于伺服区域的信号的磁性膜图形。如果以这种方式来形成所述图形,则因为可以省去伺服磁道写入工序而可以降低成本。

作为一种典型的压印方法,已知下面的方法(美国专利第5,772,905号)。首先,将作为热塑树脂的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)涂敷在作为抗蚀剂的硅基底上,然后使用压模来进行热循环纳米压印,以向抗蚀剂转印所述压模的图形。在去除压模后,通过氧RIE(反应离子蚀刻)来去除在抗蚀剂图形之间的凹陷部分中剩余的残余物以暴露硅表面。随后,使用所述抗蚀剂图形作为掩模来进行蚀刻,以形成凸起的硅图形。

但是,当使用上述方法来按现状制造DTR介质时,已经发现了可能引起磁记录特有的热波动抵抗性的劣化的问题,或者可能发生当将非磁性材料填充在磁性膜图形之间的凹陷部分中时表面变得具有差的平坦度的问题。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种磁记录介质,并且提供使用这样的磁记录介质的磁记录装置,所述磁记录装置的热波动抵抗性不劣化,并且在所述磁记录介质中,当将非磁性材料填充在磁性膜图形之间的凹陷部分中时获得良好的平坦度。

根据一个实施例,提供了一种磁记录介质,其特征在于包括:基底;以及磁记录层,其包括在所述基底上以凸起的形状形成的磁性膜图形,所述磁性膜图形的侧壁具有不同倾角的至少两个面。

根据另一个实施例,提供了一种磁记录装置,其特征在于包括:上述的磁记录介质;主轴电动机,其使所述磁记录介质旋转;磁头滑块,其包括读/写磁头;以及致动器,其使包括所述读/写磁头的所述磁头滑块定位在所述磁记录介质上。

在本发明的磁记录介质中,磁性膜图形的侧壁由不同倾角的两个或多个面或者曲面构成。因此,磁性膜图形的体积大于常规的磁性膜图形的体积,这带来了改善的热波动抵抗性。而且,在本发明的磁记录介质中,当将非磁性材料填充在磁性膜图形之间的凹陷部分中时可以获得良好的平坦度。

附图说明

被并入和构成说明书的一部分的附图示例了本发明的实施例,并且与上面给出的概括说明和下面给出的对实施例的详细说明一起用于说明本发明的原理。

图1是根据一个实施例的磁记录介质的横截面视图;

图2A、2B和2C是示出磁性膜图形的侧壁的形状和填充层的状态的横截面视图;

图3是根据所述实施例的磁记录介质的横截面视图;

图4A、4B、4C、4D、4E、4F、4G和4H是示出制造根据一个实施例的磁记录介质的方法的横截面视图;

图5A、5B、5C、5D、5E、5F和5G是示出制造根据另一个实施例的磁记录介质的方法的横截面视图;

图6是示出根据一个实施例的磁记录装置的透视图;以及

图7是根据所述实施例的磁记录装置的方框图。

具体实施方式

以下参考附图来说明根据本发明的各个实施例。概括地说,根据本发明的一个实施例,提供了一种磁记录介质,包括:基底;以及磁记录层,其包括在所述基底上以凸起形状形成的磁性膜图形,所述磁性膜图形的侧壁具有倾角不同的至少两个面。

图1示出了根据一个实施例的磁记录介质的横截面视图。如图1中所示,该磁记录介质具有基底11(包括底层和中间层)、在基底11上形成的凸起的形状的磁性膜图形12以及在磁性膜图形12之间的凹陷部分中填充的填充层13。如在图1中的横截面视图中所示,磁性膜图形12的侧壁形成从顶部向底部逐渐地变得平缓的曲面。可以通过修改制造磁记录介质的方法来形成这样的结构,如下所述。磁性膜图形12的侧壁仅仅需要包括具有不同倾角的两个或者多个面。

如图1中所示,在本实施例的磁记录介质中,磁性膜在磁性膜图形12的底部以底脚的形状被保留。为此,磁性膜图形12的体积(V)增大,并且KuV/kT也增大(其中Ku是各向异性常数,k是波尔兹曼常数,T是绝对温度)。结果,改善了热波动抵抗性。

在根据该实施例的磁记录介质中,还获得一个优点:可以极好地形成填充层13。参考图2A、2B和2C,将说明磁性膜图形的侧壁的形状和填充层13的状态。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710112695.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top