[发明专利]大型构件无损检测时辐射源与探测器的对中方法和装置

权利要求书

1.一种用于大型构件无损检测时辐射源与探测器的对中方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

(a)将辐射源与探测器大致对中；

(b)将对中遮挡图案旋转至遮挡位置；

(c)成像后查看遮挡图案的成像位置；

(d)调整辐射源至遮挡图案的成像位置在一定的误差内，完成对中；

对中遮挡图案为一可旋转移动的重金属矩形遮挡射线图案，其厚度为该金属在使用射线能量下的半值层厚度的1/5～2倍。

2.如权利要求1所述的用于大型构件无损检测时辐射源与探测器的对中方法，其特征在于在步骤(d)中，如果遮挡图案的位置偏离中心，则可以通过该图案所成图像的大小及偏离值计算出辐射源源点至探测器的距离及二者中心偏离尺度，调整后再成像，直至调整到一定的误差之内，完成对中步骤；

所述辐射源源点至探测器的距离的计算方法如下：

已知遮挡图案距辐射源源点为L，遮挡图案实际边长A，所成图像边长i像素，图像每像素代表实际长度U，欲求得辐射源源点距探测器为M，则有几何关系 可得出 即当前摆放位置下辐射源源点距探测器端距离；

所述偏离尺度的计算方法如下：

已知遮挡图案所成图像在横向或纵向偏离辐射场中心位h像素，图像每像素代表实际长度U，则实际偏移量H＝hU。

3.如权利要求1至2之一所述的用于大型构件无损检测时辐射源与探测器的对中方法，其特征在于所述辐射源采用使用加速器或放射性同位素的便携式高能射线源；所述探测器是DR成像屏、CR影像屏、平板闪烁屏结合CCD相机或充气电离室线阵列探测器、闪烁体线阵列探测器、半导体线阵列探测器配合扫描装置之一。

4.一种用于大型构件无损检测时辐射源与探测器的对中装置，其特征在于该装置包括对中定位板(1)、遮挡图案(3)和屏蔽准直器(5)，其中所述遮挡图案(3)通过对中定位板(1)设置于屏蔽准直器(5)前端，所述遮挡图案(3)为一可旋转移动的金属矩形遮挡射线图案，其厚度为该金属在使用射线能量下的半值层厚度的1/5～2倍，其图案中心位于屏蔽准直器(5)的中心。

5.如权利要求4所述的用于大型构件无损检测时辐射源与探测器的对中装置，其特征在于还包括用于将对中定位板(1)固定在屏蔽准直器(5)上的定位螺丝(2)，定位螺丝(2)通过对中定位板四角的定位螺孔将对中定位板固定在屏蔽准直器(5)前端。

6.如权利要求4所述的用于大型构件无损检测时辐射源与探测器的对中装置，其特征在于所述对中定位板(1)的一侧具有旋转轴(4)，遮挡图案(3)通过该旋转轴(4)进行旋转，将遮挡图案旋转至遮挡位置可以用于对中；旋转至外侧用于正常的辐射成像。