[发明专利]透射电镜中纳米线原位压缩下力电性能测试装置

权利要求书

1.一种透射电镜中纳米线原位压缩下力电性能测试装置，其特征在于：将压电陶瓷片(2)放置于透射电镜样品杆的密封管(1)内，一端固定，固定端外接两根驱动导线(19)，驱动导线(19)的另一端外接与驱动电源(20)，压电陶瓷片(2)的另一端与放置于承载底座(4)的沟槽内的连动杆(5)相接，连动杆(5)的另一端与集成块(6)内的金属滑块(13)相接，承载底座(4)一端接于透射电镜样品杆的密封管(1)，承载底座(4)的另一端接于集成块(6)；

所述集成块(6)的构造如下所述：长方体外壳(7)的开口端与承载底座(4)相接，其中长方体外壳(7)的顶部与底部均不封口。第一绝缘垫片(8)与第二绝缘垫片(9)水平放置于长方体外壳(7)内并与之相固定，第二绝缘垫片(9)放在靠近长方体外壳(7)的开口端，第一绝缘垫片(8)放在靠近长方体外壳(7)的封闭端，其中第一绝缘垫片(8)与第二绝缘垫片(9)的中间保留一条30-50微米的缝隙，使缝隙与长方体外壳(7)的开口端平行，在第一绝缘垫片(8)之上平行固定一镀金属硅片(10)，它靠近第二绝缘垫片(9)的一侧通过刻蚀法刻一条悬臂梁(11)，并且使悬梁臂(11)也平行于长方体外壳(7)的开口端。在第二绝缘垫片(9)之上垂直于悬梁臂(11)的方向上固定一滑轨(12)，滑轨(12)远离悬梁臂(11)的一端设置一凸块，在滑轨(12)之上安装金属滑块(13)，将悬臂梁(11)与金属滑块(13)的上表面设置在同一水平面上，悬臂梁(11)与金属滑块(13)之间的缝隙宽度可通过微调旋钮(15)调整金属滑块(13)来改变，微调旋钮(15)安装在滑块(12)上的凸块内。

2.根据权利要求1所述的一种透射电镜中纳米线原位压缩下力电性能测试装置，其特征在于：还包括电学测量系统(16)，该电学测量系统(16)通过两根加载导线(17)，两根信号导线(18)与集成块(6)相连接，加载导线(17)的一端与电学测量系统的控制电源相接，加载导线(17)的另一端分别与悬臂梁(11)和金属滑块(13)相接；信号导线(18)一端与电学测量系统的场发生测试仪器相接，信号导线(18)的另一端也分别与悬臂梁(11)和金属滑块(13)相接。

3.根据权利要求2所述的一种透射电镜中纳米线原位压缩下力电性能测试装置，其特征在于：所述的电学测量系统包括可控电源，电流，电压，电阻，电容，场发生测试仪器。