[发明专利]信息记录介质和光盘设备无效
申请号: | 200710122711.6 | 申请日: | 2007-07-02 |
公开(公告)号: | CN101097740A | 公开(公告)日: | 2008-01-02 |
发明(设计)人: | 高泽孝次;森田成二;梅泽和代;森下直树;大寺泰章;安东秀夫;中村直正 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/242;G11B7/007 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈源;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信息 记录 介质 光盘 设备 | ||
1.一种信息记录介质,其特征在于:
从内圆周侧开始依次配置了数据导入区、数据区、和数据导出区;
记录了记录管理数据的记录管理带形成在所述数据导入区中;
所述记录管理带的扩展区形成在所述数据区中;
管理所述记录管理带的所述扩展区的位置的记录管理数据复制带形成在所述数据导入区中;
所述介质从光入射侧开始依次具有第一基片、第一记录层、第二记录层和第二基片;
所述第一记录层从光入射侧开始具有第一染料层和第一反射层,而所述第二记录层从光入射侧开始具有第二染料层和第二反射层;并且
所述第二染料层的厚度大于所述第一染料层的厚度。
2.如权利要求1所述的介质,其特征在于:其中所述第二染料层的厚度落在从40nm到130nm的范围内。
3.如权利要求1或2所述的介质,其特征在于:其中所述第一染料层的厚度落在从40nm到90nm的范围内。
4.如权利要求1或2所述的介质,其特征在于:其中所述第一光反射层具有落在从15nm到35nm的范围内的厚度。
5.如权利要求1或2所述的介质,其特征在于:其中所述第二光反射层具有落在从70nm到150nm的范围内的厚度。
6.如权利要求1或2所述的介质,其特征在于:其中所述第二光反射层局部具有带有变形的光记录部分。
7.如权利要求1或2所述的介质,其特征在于:其中所述光反射层由银合金组成。
8.一种光盘设备,其特征在于包括:
检测装置,其用于检测通过利用激光束照射信息记录介质所获得的反射光,在所述信息记录介质中
从内圆周侧开始依次配置了数据导入区、数据区,和数据导出区;
记录了记录管理数据的记录管理带形成在所述数据导入区中;
所述记录管理带的扩展区形成在所述数据区中;
管理所述记录管理带的所述扩展区的位置的记录管理数据复制带形成在所述数据导入区中;
所述介质从光入射侧开始依次具有第一基片、第一记录层、第二记录层和第二基片;
所述第一记录层从光入射侧开始具有第一染料层和第一反射层,而所述第二记录层从光入射侧开始具有第二染料层和第二反射层;并且
所述第二染料层的厚度大于所述第一染料层的厚度;以及
生成装置,其根据由所述检测装置所检测到的反射光来生成重放信号。
9.如权利要求8所述的设备,其特征在于:其中所述第二染料层的厚度落在从40nm到130nm的范围内。
10.如权利要求8或9所述的设备,其特征在于:其中所述第一染料层的厚度落在从40nm到90nm的范围内。
11.如权利要求8或9所述的设备,其特征在于:其中所述第一光反射层具有落在从15nm到35nm的范围内的厚度。
12.如权利要求8或9所述的设备,其特征在于:其中所述第二光反射层具有落在从70nm到150nm的范围内的厚度。
13.如权利要求8或9所述的设备,其特征在于:其中所述第二光反射层局部具有带有变形的光记录部分。
14.如权利要求8或9所述的设备,其特征在于:其中所述光反射层由银合金组成。
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