[发明专利]一种超声波/化学联合去污工艺及其设备无效
申请号: | 200710123096.0 | 申请日: | 2007-06-29 |
公开(公告)号: | CN101079334A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | 邬强 | 申请(专利权)人: | 中国辐射防护研究院 |
主分类号: | G21F9/00 | 分类号: | G21F9/00;B08B3/12;B08B3/08 |
代理公司: | 北京捷诚信通专利事务所 | 代理人: | 魏殿绅;庞炳良 |
地址: | 030006*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 超声波 化学 联合 去污 工艺 及其 设备 | ||
1.一种超声波/化学联合去污工艺,包括如下步骤:
a)用含有强氧化剂的碱性溶液浸泡放射性污染部件,在超声波作用下,通过碱性强氧化剂,将放射性氧化腐蚀沉积物中难溶的低价金属氧化物,氧化为可溶性的高价酸根离子,同时去除油污,反应时间6~12小时;
b)用去离子水在超声波作用下,漂洗待去污部件上残留的去污剂、污染物和其它杂质,反应时间0.5小时;
c)用含有还原剂的酸性溶液浸泡放射性污染部件,在超声波的作用下,通过酸性溶液中的还原剂,将部件表面放射性氧化腐蚀沉积物中难溶的高价金属氧化物,还原为可溶性低价离子,反应时间6~12小时;
d)用去离子水在超声波作用下,漂洗待去污部件上残留的去污剂、污染物和其它杂质,反应时间0.5小时,并晾干。
2.如权利要求1所述的超声波/化学联合去污工艺,其特征在于:四个步骤中基本操作条件为,超声波频率20~40kHz、超声波功率密度10~30W/cm2、溶液用量0.1~1.5m3、工作温度70~90℃。
3.如权利要求1或2所述的超声波/化学联合去污工艺,其特征在于:步骤a)中使用的强氧化剂为高锰酸钾,在溶液中的质量百分含量为0.1~0.5%;碱为氢氧化钠,在溶液中的质量百分含量为0.1~0.5%。
4.如权利要求1或2所述的超声波/化学联合去污工艺,其特征在于:步骤c)中所使用的还原剂为草酸或柠檬酸,在溶液中的质量百分含量为0.1~0.5%。
5.一种用于上述超声波/化学联合去污工艺的设备,包括三个超声波槽罐,其特征在于:每个超声波槽罐(1)内设有若干块超声波振板(2),超声波振板(2)通过电器柜(4)与仪表控制台(9)连接;超声波槽罐(1)中部设有物品吊篮(6);超声波槽罐(1)下部设有加热盘管(5),加热盘管(5)通过电缆线与仪表控制台(9)连接;超声波槽罐(1)下部开口与水过滤器(7)和液泵(8)入口相通,液泵(8)出口与超声波槽罐(1)上部开口相通,构成循环回路。
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