[发明专利]减少存储库碰撞的方法及处理图形的计算机系统有效

专利信息
申请号: 200710123327.8 申请日: 2007-06-20
公开(公告)号: CN101114376A 公开(公告)日: 2008-01-30
发明(设计)人: 徐建明;陈文中;李亮 申请(专利权)人: 威盛电子股份有限公司
主分类号: G06T1/60 分类号: G06T1/60;G06F12/08
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 减少 存储 碰撞 方法 处理 图形 计算机系统
【权利要求书】:

1.一种减少存储库碰撞的方法,用于减少L2快取存储器内的存储库碰撞,其特征在于,包含:

自用以储存用于一图形处理单元内的纹理过滤操作的纹理数据的一外部存储器接收纹理数据;

将所述纹理数据分为多个存储库;

对所述存储库执行存储库搅和操作;以及

将所述纹理数据的所述存储库写入至所述L2快取存储器;

其中将所述纹理数据分为多个存储库以及将所述纹理数据的所述存储库写入至所述L2快取存储器的步骤是在逐存储库的基础上执行。

2.根据权利要求1所述的减少存储库碰撞的方法,其特征在于,将所述纹理数据分为多个存储库包含:

将所述纹理数据组织成具有对应索引的连续存储库,其中所述存储库储存在至少一快取线中;以及

将所述存储库组织成快取线。

3.根据权利要求1所述的减少存储库碰撞的方法,其特征在于,执行所述存储库搅和包含重新映射位于交替快取线中的所述存储库,其中重新映射包含:

将存储库0与存储库4调换;

将存储库1与存储库5调换;

将存储库2与存储库6调换;以及

将存储库3与存储库7调换。

4.根据权利要求3所述的减少存储库碰撞的方法,其特征在于,重新映射更包含:

分析待重新映射的所述存储库以确定新存储库碰撞是否将由于重新映射所述存储库而出现;以及

利用不同的存储库搅和模式,以避免新存储库碰撞。

5.一种处理图形的计算机系统,其特征在于,包含:

一外部存储器,用以储存用于一图形处理单元内的纹理过滤操作的纹理数据;

一存储库搅和模块,用以自所述外部存储器接收纹理数据,将所述纹理数据分为多个存储库,且执行存储库搅和操作以重新映射所述纹理数据的所述存储库;以及

一L2快取存储器,耦接至所述存储库搅和模块,其中所述L2快取存储器可用以储存所述经重新映射的纹理数据。

6.根据权利要求5所述的处理图形的计算机系统,其特征在于,所述纹理数据被分为多个存储库,其中所述存储库储存在至少一快取线中。

7.根据权利要求5所述的处理图形的计算机系统,其特征在于,所述存储库搅和模块更用以对交替快取线内的存储库执行所述存储库搅和操作。

8.根据权利要求5所述的处理图形的计算机系统,其特征在于,所述存储库搅和模块用于下列情况其中之一:

仅在当自所述L2快取存储器提取纹理数据出现存储库碰撞时,执行所述存储库搅和操作;以及

在自外部存储器接收所述纹理数据之后执行所述存储库搅和操作。

9.根据权利要求5所述的处理图形的计算机系统,其特征在于,所述存储库搅和模块根据一映射机制执行所述存储库搅和操作,所述映射机制包含:

将存储库0与存储库4调换;

将存储库1与存储库5调换;

将存储库2与存储库6调换;以及

将存储库3与存储库7调换。

10.根据权利要求9所述的处理图形的计算机系统,其特征在于,所述存储库搅和模块可用以分析待执行的所述存储库搅和操作,以确定新存储库碰撞是否将由于利用所述映射机制而出现,且其中所述存储库搅和模块更可用以利用不同的存储库搅和模式以避免新的存储库碰撞。

11.一种减少存储库碰撞的方法,用于减少L2快取存储器内的存储库碰撞,其特征在于,包含:

自所述L2快取存储器提取纹理数据,其中所述纹理数据用于一图形处理单元内的纹理过滤;

确定在提取所述纹理数据时是否已出现存储库碰撞,其中所述纹理数据分为位于所述L2快取存储器内的至少一快取线中的多个存储库;以及

若出现所述存储库碰撞,则对所述存储库执行存储库搅和操作;

其中所述纹理数据在逐存储库的基础上被分为多个存储库。

12.根据权利要求11所述的减少存储库碰撞的方法,其特征在于,执行所述存储库搅和包含根据交替快取线重新映射涉及所述存储库碰撞的所述存储库。

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