[发明专利]曝光装置、曝光方法、及显示用面板基板的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其在掩膜与基板之间设置着微小间隙，将掩膜上的图案转印到基板上，其特征在于包括：

检测机构，其检测由掩膜的温度变化而导致的伸缩量；以及

基板温度调节机构，其根据上述检测机构的检测结果来调节基板的温度，且以与掩膜的伸缩相一致的方式使基板伸缩。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

上述检测机构包括：

多个图像获得机构，获得设置在掩膜的多个部位上的检测用图案的图像，并输出图像信号；

图像信号处理装置，对上述图像获得机构所输出的图像信号进行处理；以及

主控制装置，其根据上述图像信号处理装置的处理结果，检测各检测用图案的位置，并根据各检测用图案的位置，而计算出检测用图案的间隔，且根据检测用图案的间隔，而计算出掩膜的伸缩量。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

上述基板温度调节机构包括：

与基板接触的夹盘；

设置在上述夹盘上的热介质通路；

热交换器，向上述热介质通路供给热介质，并使所供给的热介质的温度及量产生变化，以使上述夹盘的温度产生变化；

温度传感器，其检测上述夹盘的温度；以及

温度控制装置，其以上述温度传感器所检测出的夹盘的温度成为目标温度的方式，控制上述热交换器，且

上述主控制装置，根据所计算出的掩膜的伸缩量，而计算出夹盘的目标温度，并对上述温度控制装置设定目标温度。

4.一种曝光方法，其在掩膜与基板之间设置着微小间隙，并将掩膜上的图案转印到基板上，其特征在于：

检测由掩膜的温度变化而导致的伸缩量，

根据检测结果来调节基板的温度，并以与掩膜的伸缩相一致的方式，使基板进行伸缩。

5.如权利要求4所述的曝光方法，其特征在于：

在掩膜的多个部位上设置着检测用图案；

获得各检测用图案的图像；

对各检测用图案的图像信号进行处理，以检测各检测用图案的位置；

根据各检测用图案的位置，而计算出检测用图案的间隔；且

根据检测用图案的间隔，而计算出掩膜的伸缩量。

6.如权利要求5所述的曝光方法，其特征在于：

在与基板接触的夹盘上设置着热介质通路；

向设置在夹盘上的热介质通路供给热介质，并使所供给的热介质的温度及量产生变化，以使夹盘的温度产生变化；

根据所计算出的掩膜的伸缩量，而计算出夹盘的目标温度；

检测夹盘的温度；

以使所检测的夹盘的温度成为目标温度的方式，控制向设置在夹盘上的热介质通路供给的热介质的温度及量。

7.一种显示用面板基板的制造方法，其特征在于：

使用如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，将掩膜上的图案转印到基板上。

8.一种显示用面板基板的制造方法，其特征在于：

使用如权利要求4至6中任一项所述的曝光方法，将掩膜上的图案转印到基板上。