[发明专利]一种锗基底零件表面的红外截止滤光膜膜系及其镀制方法

权利要求书

1.一种锗基底零件表面的红外截止滤光膜膜系，其特征在于，该膜系从里到外由13层膜组成，其奇数层膜料为硫化锌，偶数层膜料为锗；每层膜的光学厚度为：

 

序号12345678910111213膜层的光学          厚度(nm)     552    1001    1121   910   923    1173   956   682    1224   954   702    1986    2313

。

2.一种在锗基底表面镀制如权利要求1所述红外截止滤光膜膜系的方法，其特征是，所用设备需配置E型电子束蒸发源、热电组蒸发源、石英晶体控制部件、离子束辅助装置、加热烘烤装置；

工艺步骤如下：

(1)清洁被镀零件，使用超声波和/或清洁剂对锗基底零件镀膜表面进行清洁处理；

(2)烘烤基底，将被镀零件夹持在夹具上放入高真空镀膜设备中，抽真空到1×10^-2Pa时，加热基底到120℃～180℃，保温时间1～2小时；

(3)镀制ZnS膜，ZnS膜料放在热电组蒸发舟内进行蒸镀，蒸镀时真空度为5×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸发速率为0.8nm/S～1nm/S，膜层厚度由石英晶体控制仪控制，膜层的几何厚度值为权利要求1表中序号1所对应膜层的光学厚度值乘以系数0.86，即几何厚度值为475nm；

(4)镀制Ge膜，Ge膜料放在可旋转电子枪蒸发源坩埚中由电子束进行蒸镀，蒸镀时真空度为5×10^-3Pa～2×10^-3Pa，蒸发速率为0.4nm/S～0.6nm/S，膜层厚度由石英晶体控制仪控制，膜层的几何厚度值为权利要求1表中序号2所对应膜层的光学厚度值乘以系数0.385，即几何厚度值为386nm；

(5)重复步骤(3)和(4)，交替镀制其它所有膜层，3～13层膜中所有奇数膜层所用膜料、工艺参数与步骤(3)相同，膜层的几何厚度为其在权利要求1表中所对应层的光学厚度值乘以系数0.86；所有偶数膜层所用膜料、工艺参数与步骤(4)相同，膜层的几何厚度为其在权利要求1表中所对应层的光学厚度值乘以系数0.385；

(6)冷却后取出镀制好膜系的光学零件。