[发明专利]电极集流体及其检查方法、电池电极及其制备方法以及二次电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200710126027.5 申请日: 2007-06-29
公开(公告)号: CN101106196A 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: 岩间正之;川濑贤一;井本理佳子;北昭宪;佐鸟浩太郎 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: H01M4/64 分类号: H01M4/64;H01M4/02;H01M4/04;H01M10/40;H01M10/38
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电极 流体 及其 检查 方法 电池 制备 以及 二次
【权利要求书】:

1.一种形成电池电极的电极集流体,

其中,所述电极集流体由铜或铜合金制成,

其中,所述电极集流体具有前表面色和后表面色,其中的至少一种颜色是属于由以下表示的色空间的颜色:

50≤L*≤80,5≤a*<60,5≤b*<60,

其中,L*、a*和b*是基于在JIS Z 8729中描述的L*a*b*比色系统确定的数值。

2.根据权利要求1所述的电极集流体,其中,所述前表面色和所述后表面色中的至少一种颜色是属于由以下表示的色空间的颜色:

50≤L*≤80,20≤a*≤40,15≤b*≤30,

其中,L*、a*和b*是基于所述L*a*b*比色系统确定的数值。

3.根据权利要求2所述的电极集流体,其中,所述前表面色和所述后表面色中的至少一种颜色是属于由以下表示的色空间的颜色:

55≤L*≤65,22≤a*≤30,17≤b*≤22,

其中,L*、a*和b*是基于所述L*a*b*比色系统确定的数值。

4.根据权利要求1所述的电极集流体,其中,所述前表面色和所述后表面色彼此不同之处在于,其一的基于所述L*a*b*比色系统确定的所述L*、a*和b*数值中的至少一个与另一个不同。

5.根据权利要求1所述的电极集流体,其具有前表面和后表面,其中的至少一个表面通过由铜或铜合金制成的精细颗粒而变粗糙,所述精细颗粒固定在所述前表面和所述后表面中的至少一个表面上。

6.根据权利要求5所述的电极集流体,

其中,所述电极集流体由电解铜箔制成,以及

其中,所述精细颗粒通过电解处理形成。

7.根据权利要求6所述的电极集流体,

其中,所述电解铜箔在X-射线衍射测量中具有满足I(220)/I(111)≤1关系的铜的衍射峰强度比,

其中,所述电解铜箔具有均通过电解处理变粗糙的前表面和后表面,并且当依照JIS B0601进行测量时,在所述前表面侧上具有的十点平均表面粗糙度Rz为2.0μm≤Rz≤4.5μm,而在所述后表面侧上的十点平均表面粗糙度Rz为2.5μm≤Rz≤5.5μm,

其中,所述前表面色是属于由以下表示的色空间的颜色:

45≤L*≤65,20≤a*≤30,15≤b*≤25,

而所述后表面色是属于由以下表示的色空间的颜色:

50≤L*≤70,20≤a*≤30,15≤b*≤25,

其中,L*、a*和b*是基于所述L*a*b*比色系统确定的数值。

8.根据权利要求7所述的电极集流体,其中,当依照JIS B0601进行测量时,所述电极集流体在所述前表面侧上具有的十点平均表面粗糙度Rz为2.8μm≤Rz≤3.5μm和在所述后表面侧上的十点平均表面粗糙度Rz为4.2μm≤Rz≤5.2μm,以及在所述前表面侧上具有的表面粗糙度Ra为0.50μm≤Ra≤0.65μm和在所述后表面侧上的表面粗糙度Ra为0.80μm≤Ra≤0.95μm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼株式会社,未经索尼株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710126027.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top