[发明专利]感光性组合物及使用其的显示装置用遮光膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种感光性组合物及使用该组合物的感光性转印材料、显示装置用遮光膜及其形成方法、黑矩阵、带遮光膜基板、滤色片以及显示装置。

背景技术

近年来，为了提高显示图像的对比度，要求黑矩阵具有4.0以上的高光学浓度。另一方面，如果黑矩阵的厚度较厚，则会损坏滤色片的表面平滑性，所以必须构成为薄膜。

制作具有高遮光性的显示装置用的黑矩阵时，一直使用金属的薄膜。这是通过在利用蒸镀法或溅射法形成的铬等金属薄膜上，涂敷光致抗蚀剂，接着使用具有显示装置用遮光膜用图案的光掩模对光致抗蚀剂进行曝光·显影，然后对露出的金属薄膜进行蚀刻，最后通过剥离除去残存于金属薄膜上的光致抗蚀剂而形成的方法(例如参照“彩色TFT液晶显示器”p.218～p.220，共立出版(株)发行(1997年4月10日))。

该方法由于使用金属薄膜，所以即使膜厚小也可以得到高遮光效果，相反，必需蒸镀法或溅射法这样的真空成膜工序或蚀刻工序，成本变高。另外，由于是金属薄膜，所以反射率极高，在强外光下，显示对比度变低。对应这些问题，还提出了使用低反射铬膜(金属铬与氧化铬的2层构成的膜等)的方法，但不可否认，成本进一步提高了。那么，进而，为了排出在蚀刻工序中的含有金属离子的废液，环境负担也很大。尤其最常使用的铬有害且环境负荷非常大。

另一方面，作为得到环境负荷小的黑矩阵的技术之一，包括使用炭黑的技术(例如参照特开昭62-9301号公报)。这是在基板上涂敷含有炭黑的感光性树脂组合物并使其干燥，对干燥后的产物进行曝光、显影成为黑矩阵的技术。

但是，炭黑由于每单位涂敷量的光学浓度低，所以为了保证高遮光性、光学浓度而必然膜厚要变大，例如为了保证与上述的金属膜相等的光学浓度4.0，膜厚则为1.2～1.5μm。所以，在形成黑矩阵之后，形成红、蓝、绿的像素时，由于像素边缘部的高低差等，滤色片的表面变得不平滑，显示质量降低。

除上述以外，作为得到环境负荷小且为薄膜、光学浓度高的黑矩阵的方法，已知有代替炭黑使用金属颗粒的方法(例如参照特开2004-240039号公报、特开2005-17322号公报)。利用该方法，可以得到环境负荷小且为薄膜、光学浓度高的黑矩阵。

但是，金属微粒确实以薄膜且具有高光学浓度地构成黑矩阵，尽管从该点来看是有用的，但由于随着薄层化而膜强度降低，存在气泡(pin hole)故障的发生或显影时的刷伤、产生黑矩阵的碎片问题。

发明内容

本发明正是鉴于上述问题点而提出的，其目的在于提供一种即使在薄膜化的情况下也不会发生所述问题的感光性组合物及使用该组合物的感光性转印材料、显示装置用遮光膜及其形成方法、黑矩阵、带遮光膜基板、滤色片以及显示装置。

即，本发明是

<1>一种感光性组合物，其特征在于，至少含有(I)金属颗粒或具有金属的颗粒、(II)含有尿烷基和多个(甲基)丙烯酰基的聚合性单体、和(III)树脂。

<2>根据<1>所述的感光性组合物，其特征在于，所述(II)聚合性单体中含有的(甲基)丙烯酰基为3个以上。

<3>根据<2>所述的感光性组合物，其特征在于，所述(II)聚合性单体为下述通式(A)或(B)表示的化合物。

[化1]

(在通式(A)或(B)中，R₁表示下述式(a)、(b)或(c)，R₂表示氢原子或甲基。)

[化2]

(式(a)中，n表示2～8的整数。)

<4>根据<1>～<3>中任意一项所述的感光性组合物，其特征在于，所述(I)金属颗粒或具有金属的颗粒的至少一种为具有银锡合金部的颗粒。

<5>根据<1>～<4>中任意一项所述的感光性组合物，其特征在于，所述(I)金属颗粒或具有金属的颗粒的数均粒径为0.1μm以下。

<6>一种感光性转印材料，其特征在于，在临时支撑体上具有使用<1>～<5>中任意一项所述的感光性组合物而成的感光性组合物层。

<7>一种显示装置用遮光膜的形成方法，其特征在于，至少具有：在基板上涂敷<1>～<5>中任意一项所述的感光性组合物的工序。