[发明专利]表征光学系统的透射损失的方法

权利要求书

1.一种表征光学系统的透射损失的方法，包括：

测量辐射射束的照明轮廓，以获得所述辐射射束的透射；

投射所述辐射射束通过所述光学系统；

测量投射通过所述光学系统的所述辐射射束的强度分布；以及

比较所测量的强度分布和所述照明轮廓以表征所述透射损失，

其中表征所述透射损失包括表征P和S偏振光的透射损失，

其中对P和S偏振光的透射损失的表征包括投射线性偏振的辐射射束通过所述光学系统，测量与所述线性偏振平行和垂直的偏振分量的透射，以及将与所述线性偏振平行和垂直的偏振分量的透射分别与所述辐射射束的透射相比，以获得与所述线性偏振平行和垂直的偏振分量的透射损失。

2.如权利要求1所述的方法，其中在所述光学系统的后焦平面中测量所述强度分布，具有已知反射率的衬底被置于所述光学系统的焦平面中。

3.如权利要求2所述的方法，其中所述具有已知反射率的衬底是反射镜。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述照明轮廓和投射通过所述光学系统的所述辐射射束的强度分布的测量利用CCD或CMOS器件来完成。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述照明轮廓的测量包括通过参考反射镜测量所述辐射射束的反射。

6.如权利要求1所述的方法，还包括将正交偏振器置于投射通过所述光学系统之后的所述辐射射束的路径中并且测量投射通过所述光学系统和所述正交偏振器的所述辐射射束的强度分布。

7.如权利要求1所述的方法，其中所述光学系统包括检查系统，所述检查系统被配置为测量衬底的特性。

8.一种配置为测量衬底的特性的检查设备，包括：

辐射投影仪，配置为通过光学系统将辐射投射到所述衬底；

检测器，配置为检测自所述衬底反射的辐射；

数据处理单元，配置为通过考虑P和S偏振光遭受的透射损失使所检测的辐射射束标准化；

其中所述数据处理单元通过下列步骤表征所述光学系统的透射损失：

测量所述辐射的照明轮廓，以获得所述辐射的透射；

投射所述辐射通过所述光学系统；

测量投射通过所述光学系统的所述辐射的强度分布；以及

比较所测量的强度分布和所述照明轮廓以表征所述透射损失；

其中表征所述透射损失包括表征P和S偏振光的透射损失，对P和S偏振光的透射损失的表征包括投射线性偏振的辐射射束通过所述光学系统，测量与所述线性偏振平行和垂直的偏振分量的透射，以及将与所述线性偏振平行和垂直的偏振分量的透射分别与所述辐射射束的透射相比，以获得与所述线性偏振平行和垂直的偏振分量的透射损失。

9.如权利要求8所述的检查设备，还包括配置为存储P和S偏振光遭受的透射损失的数据表。

10.如权利要求8所述的检查设备，其中在所述光学系统的后焦平面中测量所述强度分布，具有已知反射率的衬底被置于所述光学系统的焦平面中。

11.如权利要求10所述的检查设备，其中所述具有已知反射率的衬底是反射镜。

12.如权利要求8所述的检查设备，其中所述照明轮廓和投射通过所述光学系统的辐射的强度分布的测量利用CCD或CMOS器件来完成。

13.如权利要求8所述的检查设备，其中所述照明轮廓的测量包括通过参考反射镜测量所述辐射的反射。

14.如权利要求8所述的检查设备，还包括将正交偏振器置于投射通过所述光学系统之后的所述辐射的路径中并测量投射通过所述光学系统和所述正交偏振器的辐射的强度分布。