[发明专利]在光罩上制作倾斜线路的方法有效

专利信息
申请号: 200710126598.9 申请日: 2007-06-22
公开(公告)号: CN101105623A 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: 郑成镐 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F1/14;H01L21/027
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光罩上 制作 倾斜 线路 方法
【权利要求书】:

1.一种在光罩上制作倾斜线路的方法,包括下列步骤:

将待曝光的矩形图案分成若干面积相同的第一矩形区域,位于该矩形图案两端的第一矩形区域为第一边缘区域;

用相同的电子束剂量在各个第一矩形区域曝光;

在光罩的阻剂层上形成第一阻剂矩形图案;

将第一阻剂矩形图案分成若干第二矩形区域,位于该矩形图案两端的第二矩形区域为第二边缘区域,第二边缘区域的面积比第一边缘区域面积小;

第二边缘区域采用比第一边缘区域小的电子束剂量曝光,非边缘第二矩形区域采用与第一矩形区域相同的电子束剂量曝光;

在光罩的阻剂层上形成第二阻剂矩形图案;

根据重叠间距,重复上述步骤,形成多个第二阻剂矩形图案,并且将多个第二阻剂矩形图案重叠放置,形成倾斜线路;

经过显影、去阻剂层以及蚀刻过程后在光罩上形成倾斜线路。

2.根据权利要求1所述的在光罩上制作倾斜线路的方法,其特征在于:第二边缘区域的电子束剂量是第一边缘区域的电子束剂量的1/2。

3.根据权利要求2所述的在光罩上制作倾斜线路的方法,其特征在于:根据电子束剂量等于曝光时间乘以能量密度,通过控制曝光时间来控制电子束剂量。

4.根据权利要求3述的在光罩上制作倾斜线路的方法,其特征在于:曝光时间由阻剂层厚度来决定。

5.根据权利要求4所述的在光罩上制作倾斜线路的方法,其特征在于:阻剂层的厚度为250~300nm。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的在光罩上制作倾斜线路的方法,其特征在于:所述电子束采用矩形电子束,第二阻剂矩形图案重叠间距为矩形电子束宽度的1/2。

7.根据权利要求6所述的在光罩上制作倾斜线路的方法,其特征在于:第二阻剂矩形图案重叠间距为104nm。

8.根据权利要求6所述的在光罩上制作倾斜线路的方法,其特征在于:矩形电子束将各个矩形区域全部覆盖。

9.根据权利要求6所述的在光罩上制作倾斜线路的方法,其特征在于:通过计算机控制矩形电子束剂量及第二阻剂矩形图案重叠间距。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710126598.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top