[发明专利]模制品、硬模、光学元件以及光学装置有效
申请号: | 200710126943.9 | 申请日: | 2007-07-02 |
公开(公告)号: | CN101101372A | 公开(公告)日: | 2008-01-09 |
发明(设计)人: | 远藤弘之 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10;B29C33/42;B29C33/44 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张敬强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 制品 光学 元件 以及 装置 | ||
1.一种模制品,该模制品由使用硬模的模型转换方法制备,包括:
表面,包括斜面,其中,所述斜面的法线方向与硬模的脱模方向不同;以及
图案,所述图案形成在所述表面上并包括位于所述斜面的至少部分上以在所述斜面的倾斜方向上沿着所述斜面延伸的凹槽。
2.根据权利要求1所述的模制品,其中,所述表面包括参考点,在该参考点,法线方向基本与硬模的脱模方向相同,并且,其中所述凹槽在斜面的倾斜方向上从参考点或从参考点附近放射状延伸。
3.根据权利要求2所述的模制品,其中,所述图案还包括不同于放射状延伸的凹槽的第二图案,并且所述第二图案位于参考点的附近。
4.根据权利要求1所述的模制品,其中,每个所述凹槽具有不大于两个相邻凹槽之间的间距的宽度。
5.根据权利要求1所述的模制品,其中,每个所述凹槽具有基本等于两个相邻凹槽之间的间距的宽度。
6.根据权利要求1所述的模制品,其中,该模制品是具有防反射功能的光学元件,并且两个相邻凹槽之间的间距不大于照射该光学元件的光的波长。
7.根据权利要求1所述的模制品,其中,在可脱模性、可湿性和摩擦系数中的至少一个方面上,其上形成凹槽的斜面的部分不同于其上没有形成凹槽的表面的其它部分。
8.根据权利要求7所述的模制品,其中,所述斜面的部分的摩擦系数与其它部分的摩擦系数不同,并且所述斜面的部分具有随方向而定的摩擦系数。
9.一种用于形成模制品的硬模,包括在内表面上的图案,其中,该图案包括凹槽图案,用于在模制品表面上的斜面的至少部分上形成凹槽,并且,该斜面的法线方向与硬模的脱模方向不同。
10.一种光学元件,该光学元件基本是透明的并具有防反射功能,包括:
根据权利要求1所述的模制品,
其中,在斜面的部分上形成的两个相邻的凹槽之间的间距不大于照射在光学元件上的光的波长。
11.一种光学装置,包括:
光源,构成为发出光;以及
根据权利要求10所述的光学元件,构成为调制所述光,其中所述光从其上形成凹槽的表面进入所述光学元件,以及
其中,在两个相邻凹槽之间的间距不大于由光源发出的光的波长。
12.根据权利要求11所述的光学装置,其中,所述光学装置是光学扫描装置,包括:
光源;
校准装置,构成为校准由所述光源发出的光;
偏转装置,构成为偏转校准的光;以及
扫描和聚焦装置,构成为利用校准的光扫描表面,同时将所述光聚焦在要被扫描的表面上,以及
其中,校准装置以及扫描和聚焦装置中的至少一个包括所述光学元件。
13.根据权利要求12所述的光学装置,其中,所述校准装置包括准直仪透镜,并且准直仪透镜包括所述光学元件。
14.根据权利要求12所述的光学装置,其中,所述校准装置包括柱面透镜,并且所述柱面透镜包括所述光学元件。
15.根据权利要求12所述的光学装置,其中,所述扫描和聚焦装置包括扫描透镜,并且所述扫描透镜包括所述光学元件。
16.根据权利要求11所述的光学装置,其中,所述光学装置是图像显示装置,包括:
光源;
照明装置,构成为引导由所述光源发出的光;
图像显示元件,构成为将来自所述照明装置的所述光转变为成像光;以及
投影透镜,构成为将所述成像光投射到屏幕上,
其中所述照明装置和所述投影透镜中的至少一个包括所述光学元件。
17.根据权利要求11所述的光学装置,其中所述光学装置是光学摄像装置,包括:
光源;
校准装置,构成为校准由所述光源发出的光;
物镜,构成为将校准的光聚焦在光学记录介质上;
聚光器,构成为聚集从所述光学记录介质反射的光;以及
感光器,构成为接收所述聚集的光,
其中,所述校准装置、物镜和聚光器中的至少一个包括所述光学元件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710126943.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。