[发明专利]成膜装置及成膜方法无效
申请号: | 200710127012.0 | 申请日: | 2007-06-15 |
公开(公告)号: | CN101096753A | 公开(公告)日: | 2008-01-02 |
发明(设计)人: | 千田二郎;大岛元启;清水哲夫;富永浩二;松田耕一郎;山岸丰 | 申请(专利权)人: | 株式会社堀场制作所;株式会社堀场STEC;学校法人同志社 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 | 代理人: | 徐申民 |
地址: | 日本京都府京*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 方法 | ||
1.一种成膜装置,
使液体原料汽化后堆积在基板上而成膜,其特征在于,
具有:在内部保持基板的成膜室,以及
多个喷射阀,所述多个喷射阀配置在所述成膜室的不同位置,将同一液体原料直接喷射到所述成膜室内,通过使其减压沸腾,而将所述液体原料汽化供给。
2.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,将所述多个喷射阀设置成相对于保持在所述成膜室内的规定位置的基板的中心轴大致对称。
3.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,将所述多个喷射阀设置成各自相互之间等间隔。
4.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,所述成膜装置具有控制装置,所述控制装置使所述喷射阀周期性地开闭,从而间歇性地将所述液体原料供给到所述成膜室内。
5.如权利要求4所述的成膜装置,其特征在于,所述控制装置使所述各喷射阀的开闭时刻分别不同,分别轮流进行所述各喷射阀的开闭。
6.一种成膜方法,在内部保持基板的成膜室内,通过配置于不同位置的多个喷射阀来直接喷射同一液体原料,通过使其减压沸腾而使所述液体原料汽化,堆积在所述基板上而成膜。
7.如权利要求6所述的成膜方法,其特征在于,使所述各喷射阀分别周期性地开闭,间歇性地将所述液体原料供给到所述成膜室内。
8.如权利要求7所述的成膜方法,其特征在于,使所述各喷射阀的开闭时刻分别不同,分别轮流进行所述各个喷射阀的开闭。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的