[发明专利]偏振分光器件及其制造方法和设备以及包括其的显示器

权利要求书

1.一种用于制造偏振分光器件的方法，包括：

提供在基部上具有脊的图案的透射基构件；并且

在所述脊上形成非透射层，其中，所述非透射层包括：

光反射部分，以及

光吸收部分，以及

在所述光反射部分和所述光吸收部分之间的中间部分，

所述光反射部分和所述光吸收部分具有相同的材料成分，并且

其中，形成所述非透射层包括通过根据所述非透射层高度改变沉 积角度来沉积所述非透射层，

其中所述非透射层呈现反射率的渐变，所述反射率的渐变具有反 射的致密状态和吸收的疏松状态，

其中，

形成所述非透射层包括从相对于所述基部的至少两个不同的角度施 加所述材料成分，

所述至少两个角度中的第一角度对应于所述光反射部分，并且

所述至少两个角度中的第二角度对应于所述光吸收部分；以及

形成所述非透射层包括从至少两个不同的角度范围施加所述材料成 分，

所述至少两个范围中的第一范围对应于所述光反射部分，并且

所述至少两个范围中的第二范围对应于所述光吸收部分；以及

形成所述光反射部分的沉积子过程中的沉积角度θH具有 θ2≤|θH|≤θ1的范围，其中θ2＜θ1，所述沉积角度θH为相对于沉积表面 的法向的角度，

形成所述光吸收部分的沉积子过程中的沉积角度θL具有 θ3≤|θL|≤θ4的范围，其中θ3＜θ4，所述沉积角度θL为相对于沉积表面 的法向的角度，并且

θ1、θ2、θ3和θ4满足下面的条件：

40°≤θ1≤70°，

20°≤θ2≤50°，

60°≤θ3＜90°且

60°≤θ4＜90°。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法包括：

将所述透射基构件沿近似垂直于所述脊的延伸方向的第一方向跨过 第一孔，并且通过所述第一孔将材料沉积在所述脊上以形成所述光反射部 分；并且

将所述透射基构件沿所述第一方向跨过第二孔，并且通过所述第二孔 将材料沉积在所述光反射部分上以形成所述光吸收部分。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法包括：

将所述透射基构件沿近似垂直于所述脊的延伸方向的第一方向跨过 第一孔，并且通过所述第一孔将材料沉积在所述脊上以形成所述光吸收部 分；并且

将所述透射基构件沿所述第一方向跨过第二孔，并且通过所述第二孔 将材料沉积在所述光吸收部分上以形成所述光反射部分。