[发明专利]图案形成方法

权利要求书

1.一种图案形成方法，包括下列步骤：

将包括嵌段共聚物、硅化合物、以及用于溶解上述组分的溶剂的组合物涂布到对象上，以便在所述对象上形成一层所述组合物；

对所述组合物层实施嵌段共聚物的自组织，使得相分离成第一相和第二相，所述第一相中定位有通过热处理或/和氧等离子体处理而具有较高的抗刻蚀性能的硅化合物，，所述第二相包含，通过热处理或/和氧等离子体处理具有较低的抗刻蚀性能的聚合物相，从而形成具有精细图案的图案层；以及

用这样形成的图案层作为掩模刻蚀所述对象。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述嵌段共聚物包含具有自组织相分离功能的共聚物，并且优选至少包含聚环氧乙烷作为共聚物组分。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述硅化合物包含具有硅氧烷键的硅氧烷化合物或其衍生物，并且只对所述嵌段共聚物中一个组分具有亲和力。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述嵌段共聚物包含第一组分和第二组分，所述第一组分对所述硅化合物具有亲和力，而所述第二组分对所述硅化合物没有亲和力。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶剂是从由具有乙二醇结构的醚所组成的组中选择，较好是二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇二丁醚、二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、以及其混合物。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述嵌段共聚物包含含有两种类型的聚合物链段A和B彼此键合而成的A-B型二嵌段共聚物。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述A-B型二嵌段共聚物包括从由聚苯乙烯-聚异丁烯、聚苯乙烯-异戊二烯、聚二甲基硅氧烷-聚异丁烯、聚苯乙烯-聚环氧乙烷、聚苯乙烯-聚环氧丙烷、聚环氧乙烷-聚甲基丙烯酸(氰联苯氧基)己酯、聚苯乙烯-聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯-聚甲基丙烯酸、聚环氧乙烷-聚乙烯基吡啶、聚苯乙烯-聚乙烯基吡啶、以及聚异戊二烯-聚羟基苯乙烯所组成的组中选出的材料。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述嵌段共聚物包含三嵌段共聚物，其中两种聚合物链段以A-B-A形式键合，或者三种聚合物链段以A-B-C形式键合。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述三嵌段共聚物包括从由聚苯乙烯、聚异戊二烯、聚乙烯基吡啶、聚羟基苯乙烯、聚环氧乙烷、以及聚环氧丙烷所组成的组中选出的材料。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述硅化合物具有由通式(1)至通式(4)所代表的结构：

式(1)

式(2)

式(3)

式(4)