[发明专利]光固化性组合物及使用其的图案形成方法

权利要求书

1.一种光固化性组合物，其包含(a)聚合性化合物、(b)0.1～15质量％的光聚合引发剂及/或光酸产生剂、(c)至少一种0.001～5质量％的含氟表面活性剂、硅氧烷类表面活性剂及含氟·硅氧烷类表面活性剂，并且(d)该组合物在25℃下黏度为3～18mPa·s，其中，

前述(a)聚合性化合物含有(e)皮肤原发刺激指数(PII值)为4.0以下的聚合性不饱和单体、及(f)在25℃下黏度为30mPa·s以下的聚合性不饱和单体，这些聚合性不饱和单体的含量为50质量％以上，其中，前述(e)的聚合性不饱和单体和前述(f)的聚合性不饱和单体，可以是部分相同或全部相同的聚合性不饱和单体。

2.如权利要求1所述的光固化性组合物，其中，包含光自由基聚合性不饱和单体及/或光阳离子聚合性不饱和单体作为前述(a)聚合性化合物。

3.如权利要求1所述的光固化性组合物，其中，包含具有含烯属不饱和键基团的单体作为前述(a)聚合性化合物。

4.如权利要求1所述的光固化性组合物，其中，包含具有环氧环的化合物作为前述(e)聚合性不饱和单体。

5.如权利要求1所述的光固化性组合物，其中，包含具有氧杂环丁烷环的化合物作为前述(e)聚合性不饱和单体。

6.如权利要求1所述的光固化性组合物，其中，包含乙烯基醚化合物作为前述(a)聚合性化合物。

7.如权利要求1所述的光固化性组合物，其中，包含苯乙烯衍生物作为前述(a)聚合性化合物。

8.如权利要求1～7中任一项所述的光固化性组合物，其用于光纳米压印光刻。

9.一种抗蚀剂，其使用权利要求1～7中任一项所述的光固化性组合物而形成。

10.一种图案形成方法，其包含将权利要求1～7中任一项所述的光固化性组合物进行涂敷且固化的工序。

11.一种抗蚀剂图案形成方法，其包含如下工序：将权利要求1～7中任一项所述的光固化性组合物进行涂敷的工序；将透光性模具加压于衬底上的抗蚀剂层，使前述光固化性组合物变形的工序；从模具背面或衬底背面照射光，将涂膜固化，形成嵌合于所希望的图案的抗蚀剂图案的工序；将透光性模具从涂膜上脱模的工序；以光固化性组合物为掩模对衬底进行蚀刻的工序；以及将光固化性组合物在蚀刻后进行剥离的工序。