[发明专利]浸润式微影方法、浸润式微影系统及其封闭板的对准方法

权利要求书

1.一种浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其中该浸润式微影系统包括具有一封闭板的一基材承载装置，其特征在于该浸润式微影系统的封闭板的对准方法至少包括：

提供一平板承载装置给该封闭板；

提供一光侦测器至该平板承载装置的下方；以及

进行一侦测步骤，以使用该光侦测器来侦测穿过该封闭板的一辐射线是否对准该平板承载装置，使该封闭板通过该侦测步骤而被对准。

2.根据权利要求1所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于更至少包括：

当该辐射线与该平板承载装置对准时，降低一流体围阻机构；以及

放置该封闭板至该平板承载装置中。

3.根据权利要求1所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于更至少包括：

当该辐射线被侦测到时，降低一流体围阻机构，至该封闭板的一上表面的下方；

固定该封闭板至该流体围阻机构；以及

升高具有该封闭板的该流体围阻机构。

4.根据权利要求1所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于更至少包括：

当该辐射线未对准于平板承载装置时，触发一错误讯息，并停止一扫描机构。

5.根据权利要求1所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于其中所述侦测步骤至少包括：

决定穿过一圆形图案的一光讯号的中心，是否刚好位于该平板承载装置的中心。

6.根据权利要求3所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于更至少包括：

重新插入一浸润流体于该基材承载装置中的一晶圆的表面与该浸润式微影系统的一投影镜头之间。

7.根据权利要求1所述的浸润式微影系统的封闭板的对准方法，其特征在于更至少包括：

基于相对于该平板承载装置的一中心点的该辐射线的一中心点，监视该封闭板的一位置。

8.一种浸润式微影系统，其特征在于至少包括：

一扫描机构，用以对一半导体晶圆进行曝光；

一晶圆承载装置，用以承载该半导体晶圆来被该扫描机构进行曝光，其中该晶圆承载装置更至少包括：

一平板承载装置，用以承载一封闭板；以及

一光侦测器，其中该光侦测器位于该平板承载装置的下方。

9.根据权利要求8所述的浸润式微影系统，其特征在于其中一光侦测器是操作来决定穿过该封闭板的该光讯号是否与该平板承载装置对准。

10.一种浸润式微影方法，其特征在于至少包括：

进行一侦测步骤，以使用一光侦测器来侦测穿过一封闭板的一辐射线，其中该光侦测器位于一平板承载装置的下方；

决定该辐射线是否对准于该平板承载装置；以及

当该辐射线是否对准于该平板承载装置时，执行一接管封闭板。

11.根据权利要求10所述的浸润式微影方法，其特征在于其中该执行该接管封闭板的步骤更至少包括：

当该辐射线的一中心刚好位于该平板承载装置的一中心，放置该封闭板于该平板承载装置中。

12.根据权利要求10所述的浸润式微影方法，其特征在于其中该执行该接管封闭板的步骤更至少包括：

当该辐射线的一中心刚好位于该平板承载装置的一中心时，固定该封闭板于一流体围阻机构，并升高具有该封闭板的该流体围阻机构。