[发明专利]用于等离子体反应器系统的工件旋转装置

权利要求书

1.一种用于处理平面工件的等离子体处理系统，包括：

多个等离子体反应腔室；

耦合到所述多个反应腔室的工件传送装置，其能传送工件进出各个所述腔室；以及

耦合到所述工件传送装置的工厂界面，其用于传送工件进出所述等离子体处理系统的工厂环境外部，所述工件界面包含：

(a)限定内空间的框架；

(b)在所述内空间内的所述框架上支撑的可旋转且可平移的臂；

(c)附接到所述臂外端的工件运送叶片；

(d)固定的工件夹持支撑托架，其包含固定在所述框架上并延伸到所述框架的内空间中的支架边缘，并限定工件支撑平面，所述托架进一步包含在所述托架的外围的不同部分处的第一和第二工件传送边缘。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述工件运送叶片能将工件放置到所述托架上，并在所述托架的各个所述第一和第二工件传送边缘处从所述托架移除工件。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述托架是180度工件旋转托架，并且所述托架的所述外围的所述不同部分包含所述托架的所述外围的相对部分。

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，由所述托架限定的所述工件支撑平面是矩形或正方形的，以及其中所述外围的所述相对部分是彼此平行的相对边缘并与所述工厂界面的所述框架的所述内空间的相对部分相对。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述工厂界面的所述框架的所述内空间具有窄尺寸和与所述窄尺寸正交的长尺寸，所述工厂界面框架包含与所述长尺寸相对并由所述窄尺寸分离的一对相对的长侧，所述长侧分别与所述晶圆传送装置和所述工厂环境相对。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述托架的所述相对边缘与沿着所述框架的所述长尺寸的所述内空间内的相反方向相对。

7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述窄尺寸限制所述臂的旋转，同时维持工件小于90度的旋转。

8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述托架是90度工件旋转托架，并且所述托架的所述外围的所述不同部分包含所述托架的所述外围的邻近部分。

9.根据权利要求8所述的系统，其特征在于，由所述托架限定的所述工件支撑面是矩形或正方形的，以及其中所述外围的所述相对部分是彼此正交的邻近边缘。

10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述工厂界面的所述框架的所述内空间具有窄尺寸和与所述窄尺寸正交的长尺寸，所述工厂界面框架包含对应于所述长尺寸并由所述窄尺寸分离的一对相对的长侧，所述长侧分别与所述晶圆传送装置和所述工厂环境相对。

11.根据权利要求10所述的系统，其特征在于，所述托架的所述邻近边缘沿着相对于所述框架的所述长尺寸的各自45度角放置。

12.根据权利要求11所述的系统，其特征在于，所述窄尺寸限制所述臂的旋转，同时维持工件小于90度的旋转，所述窄尺寸足以允许所述臂的45度旋转同时夹持工件。

13.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述托架进一步包含：

一般平行于所述工件支撑平面的支撑臂；以及

从所述支撑臂延伸到所述工件支撑平面的多个柱。

14.根据权利要求13所述的系统，其特征在于，每个所述柱包含在所述工件支撑平面上方的第一顶边缘和在所述工件支撑平面处的台面以及从所述顶边缘到所述台面朝向所述支撑平面的中心或者内点向下倾斜的至少一第一倾斜工件对准壁。

15.根据权利要求14所述的系统，其特征在于，所述多个柱的所述工件对准壁将所述工件支撑平面限定到相应于所述工件的尺寸的大小。

16.根据权利要求15所述的系统，其特征在于，所述工件支撑平面是矩形或正方形的，以及每个柱进一步包含与所述第一顶边缘正交的第二顶边缘，和从所述第二顶边缘到所述台面向下倾斜的第二倾斜工件对准壁，所述第一和第二顶边缘在直角落处接触。