[发明专利]溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置及其工作方法

权利要求书

1、一种溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置，包括由带通孔(5)的隔离板(6)分离的溅射腔(18)和沉积腔(19)，以及分置其内的靶材(3)和基板(9)，所说通孔(5)位于所说靶材(3)和基板(9)间的沉积通道上，所说靶材(3)位于溅射源(2)的溅射通道上，所说溅射腔(18)和沉积腔(19)分别连接有真空系统，其特征在于所说隔离板(6)为球状或锥状，所说球状或锥状隔离板(6)的凸出部伸入溅射腔(18)内。

2、根据权利要求1所述的溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置，其特征是所说球状隔离板(6)的球半径为沉积腔(19)内径的1～1.4倍，其形状为半球形或球冠形。

3、根据权利要求1所述的溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置，其特征是所说锥状隔离板(6)的锥角为60～120度，其形状为圆锥形或棱锥形。

4、根据权利要求2或3所述的溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置，其特征是通孔(5)位于球状或锥状隔离板(6)的球状或锥状的顶部，其直径为0.1～1mm。

5、根据权利要求1所述的溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置，其特征是溅射源(2)为高能电子束源或脉冲激光光源或离子束源，其中，高能电子束源位于溅射腔(18)内，脉冲激光光源或离子束源位于溅射腔(18)外。

6、根据权利要求1所述的溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置，其特征是真空系统由依次串接的蝶阀(14a，14b)、分子泵(15a，15b)与机械泵(16a，16b)构成。

7、根据权利要求1所述的溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置，其特征是溅射腔(18)置有窗口(1)、溅射腔门(11a)、溅射腔法兰(8a)和与靶材(3)同轴连接的电机(7a)，所说电机(7a)的转轴与溅射腔(18)间动配合密封连接。

8、根据权利要求1所述的溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置，其特征是沉积腔(19)置有加热系统(13)、沉积腔法兰(8b)、沉积腔门(11b)和与基板托(10)同轴连接的电机(7b)，所说电机(7b)与沉积腔(19)间动配合密封连接。

9、根据权利要求8所述的溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置，其特征是加热系统(13)和电机(7b)经波纹管(12)与沉积腔(19)连接，所说波纹管(12)的两端并联连接有调节螺杆(17)。

10、根据权利要求1所述的溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置的工作方法，包括对溅射、沉积腔真空的抽取、靶材和基板的加热，以及工作气体的配给、溅射源的轰击，其特征在于所说方法包含以下步骤：

(a)根据成膜的种类，分别确定溅射腔和沉积腔的真空度；

(b)依照成膜的要求，分别确定溅射腔和沉积腔内所需的环境气氛；

(c)启动选定的溅射源，进行溅射成膜。