[发明专利]基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构与制备方法无效
申请号: | 200710133918.3 | 申请日: | 2007-10-25 |
公开(公告)号: | CN101187708A | 公开(公告)日: | 2008-05-28 |
发明(设计)人: | 王慧田;程晨;陈璟;武齐阳;任芳芳;许吉;樊亚仙 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;H01P1/00 |
代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 | 代理人: | 汤志武;王鹏翔 |
地址: | 210093*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 波长 金属 光栅 调控 电磁波 透射 结构 制备 方法 | ||
1.一种基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构,其特征是包括两个单层亚波长金属光栅,这两个光栅平行排列,其间距和横向位移可调;该结构透射特性基于金属表面等离激元的波导模式,可调控的入射电磁波为p-偏振;所述光栅周期小于所述电磁波的波长;光栅的缝宽小于所述电磁波的半波长。
2.根据权利1所述的一种基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构,其特征是所述的光栅的材料为低损耗金属,比如银、铝或金。
3.基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构的制备方法,其特征是对于微波波段和中红外波段,可以采用金属蚀刻等工艺进行一维周期光栅的制作,然后将两个光栅平行排列,通过微调控系统调节相邻光栅之间的间距和横向偏移。
4.基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构的制备方法,其特征是对于红外和可见光波段,可以先通过磁控溅射等工艺制作单层金属薄膜;然后用聚焦离子束刻蚀等方法制作单层光栅;再制作一层介电材料的中间层,其厚度根据设计要求控制;然后制作另一层单层金属;并蚀刻具有一定横向偏移的另一层光栅。
5.根据权利要求3和4所述的基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构的制备方法,其特征是中间层可以为能透射电磁波的材料,比如空气、液体或介电材料等。
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