[发明专利]基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构与制备方法无效

专利信息
申请号: 200710133918.3 申请日: 2007-10-25
公开(公告)号: CN101187708A 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 王慧田;程晨;陈璟;武齐阳;任芳芳;许吉;樊亚仙 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;H01P1/00
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 代理人: 汤志武;王鹏翔
地址: 210093*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 基于 波长 金属 光栅 调控 电磁波 透射 结构 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构,其特征是包括两个单层亚波长金属光栅,这两个光栅平行排列,其间距和横向位移可调;该结构透射特性基于金属表面等离激元的波导模式,可调控的入射电磁波为p-偏振;所述光栅周期小于所述电磁波的波长;光栅的缝宽小于所述电磁波的半波长。

2.根据权利1所述的一种基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构,其特征是所述的光栅的材料为低损耗金属,比如银、铝或金。

3.基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构的制备方法,其特征是对于微波波段和中红外波段,可以采用金属蚀刻等工艺进行一维周期光栅的制作,然后将两个光栅平行排列,通过微调控系统调节相邻光栅之间的间距和横向偏移。

4.基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构的制备方法,其特征是对于红外和可见光波段,可以先通过磁控溅射等工艺制作单层金属薄膜;然后用聚焦离子束刻蚀等方法制作单层光栅;再制作一层介电材料的中间层,其厚度根据设计要求控制;然后制作另一层单层金属;并蚀刻具有一定横向偏移的另一层光栅。

5.根据权利要求3和4所述的基于亚波长金属双光栅的可调控电磁波透射结构的制备方法,其特征是中间层可以为能透射电磁波的材料,比如空气、液体或介电材料等。

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