[发明专利]化学气相沉积的设备

说明书

技术领域：

该技术为热处理行业处理设备领域。

背景技术：

目前普通化学气相沉积是靠热能激活的化学反应，其主要缺点：反应温度高，限制了化学气相沉积的应用。为了降低反应温度降低，化学气相沉积有了新的进展。

技术内容：

通过气态物质在工件表面的化学反应，获得沉积物粒子并成膜；可在常压或低于标准大气压下进行。设备较简单，适于大批量生产，灵活性强；膜层的化学成分容易控制，膜层纯度高、致密性好，可以获得梯度腹层或混合腹层；沉积温度高，通常在850～1100℃进行，膜层与基体的结合强度高。但温度高，可能会导致工件发生变形和材料组织结构改变；绕镀性好，形状复杂工件的各个面，能同时获得均匀的涂腹；由化学反应得到的可沉积的元素和化合物种类很多，可获得许多种金属、合金、陶瓷或其他化合物腹层；采用等离子和激光辅助技术可以显著强化化学反应，使其在较低的温度下进行沉积；为使沉积层达到所要求的性能，对气相反应必须精确控制。

具体实施方法：

该设备由反应器、加热系统、原料气供给及进气系统、抽真空系统四个主要部分组成。

①装炉将工件清洗、干燥后装入反应器内的夹具上。

②加热将反应室抽真空或通入H₂(或Ar)保护加热。

③通入反应气、沉积沉积过程中真空泵运转，使反应器内压力保持在6.5×10³～1.3×10⁴Pa的低真空，同时抽气排气。

④降温、出炉  工件达到预定的腹层厚度后，随炉降温至150℃出炉。