[发明专利]图形形成方法和图形形成装置

权利要求书

1.一种图形形成方法，其特征在于，在基板表面形成抗蚀膜或者依次形成抗蚀膜和保护膜，然后，一边将形成有抗蚀膜或者抗蚀膜和保护膜的基板浸渍在液体中，一边进行曝光，通过浸液曝光在所述抗蚀膜上形成规定的曝光图形，使用显影液使曝光图形显影，形成规定的抗蚀图形，

在浸液曝光之后、使曝光图形显影之前，实施亲水化处理，使构成基板表面的抗蚀膜表面或者保护膜表面亲水化至显影液润湿整个表面的程度。

2.如权利要求1所述的图形形成方法，其特征在于，通过向所述抗蚀膜表面或者所述保护膜表面供给药液，实施所述亲水化处理。

3.如权利要求1所述的图形形成方法，其特征在于，通过向所述抗蚀膜表面或者所述保护膜表面照射紫外线，实施所述亲水化处理。

4.如权利要求2所述的图形形成方法，其特征在于，使用所述药液，除亲水化处理之外，还对基板表面进行洗净。

5.如权利要求2所述的图形形成方法，其特征在于，在利用所述药液的亲水化处理之前或者之后或者前后双方实施利用洗净液的洗净处理。

6.如权利要求2或3所述的图形形成方法，其特征在于，在利用所述药液的亲水化处理之前或者之后照射紫外线。

7.如权利要求6所述的图形形成方法，其特征在于，在进行所述紫外线照射之后，实施利用洗净液的洗净处理，然后，进行利用所述药液的亲水化处理。

8.如权利要求6所述的图形形成方法，其特征在于，在实施利用洗净液的洗净处理之后，进行利用所述药液的亲水化处理，然后照射紫外线，之后再次实施利用洗净液的洗净处理。

9.如权利要求1～8中任一项所述的图形形成方法，其特征在于，利用所述药液的亲水化处理在先于显影处理所进行的促进抗蚀膜的酸催化反应的加热处理之前进行。

10.如权利要求2所述的图形形成方法，其特征在于，所述药液是酸性液。

11.如权利要求10所述的图形形成方法，其特征在于，所述酸性液是稀酸。

12.如权利要求11所述的图形形成方法，其特征在于，所述稀酸包括醋酸、甲酸、盐酸、硫酸、全氟烷基磺酸。

13.一种图形形成装置，其特征在于，包括：

涂布系处理部，在基板表面形成抗蚀膜或者依次形成抗蚀膜和保护膜；

浸液曝光部，一边将形成有抗蚀膜或者抗蚀膜和保护膜的基板浸渍在液体中，一边进行曝光，在所述抗蚀膜上形成规定的曝光图形；

显影处理部，使用显影液使曝光图形显影，形成规定的抗蚀图形；和

亲水化机构，在利用所述浸液曝光部曝光之后、由所述显影处理部显影之前，使构成基板表面的抗蚀膜表面或者保护膜表面亲水化至显影液润湿整个表面的程度。

14.如权利要求13所述的图形形成装置，其特征在于，所述亲水化机构具有药液供给机构，该药液供给机构向基板表面供给使所述抗蚀膜表面或者所述保护膜表面亲水化的药液。

15.如权利要求13所述的图形形成装置，其特征在于，所述亲水化机构具有紫外线照射机构，该紫外线照射机构向基板表面照射使所述抗蚀膜表面或者所述保护膜表面亲水化的紫外线。

16.如权利要求13～15中任一项所述的图形形成装置，其特征在于，所述亲水化机构具有所述药液供给机构和/或所述紫外线照射机构。

17.如权利要求13～16中任一项所述的图形形成装置，其特征在于，还具有向曝光处理后的基板供给洗净液并进行洗净的洗净处理部。

18.如权利要求17所述的图形形成装置，其特征在于，所述亲水化机构设置在所述洗净处理部中。

19.如权利要求13～18中任一项所述的图形形成装置，其特征在于，还具有加热基板促进抗蚀膜的酸催化反应的加热处理部，

由所述亲水化机构实施的亲水化处理，在先于由所述显影处理部实施的显影处理进行的由所述加热处理部实施的加热处理之前进行。

20.一种计算机可读取的存储介质，其特征在于，存储有在计算机上操作的控制程序，

所述控制程序在运行时，由计算机控制图形形成装置，使得实施权利要求1～12中任一项所述的方法。