[发明专利]复制全息记录介质制造方法与设备、复制原盘及制造设备无效
申请号: | 200710136913.6 | 申请日: | 2007-07-23 |
公开(公告)号: | CN101110227A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
发明(设计)人: | 酒匂景康;田中富士 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | G11B7/0065 | 分类号: | G11B7/0065;G03H1/26;G03H1/04 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 彭久云;马高平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复制 全息 记录 介质 制造 方法 设备 | ||
1.一种制造复制原盘的设备,该复制原盘用于在复制全息记录介质上复制载有记录数据的全息图,该设备包括:
光束分裂器,将来自激光源的光束分裂成同轴光束和原盘制造基准光束;
空间光调制器,对该同轴光束进行空间光调制以产生调制同轴光束,其中预定基准光束和对应于记录数据的信号光束同轴设置;
聚光装置,用于将该调制同轴光束聚光到该复制原盘的记录层,同时预先校正复制该复制全息记录介质时所产生的光程差;和
全息图形成位置移动装置,用于移动该记录层的位置,在该记录层中由于该原盘制造基准光束和该调制同轴光束之间的干涉而形成全息图。
2.一种制造复制原盘的设备,该复制原盘用于在复制全息记录介质上复制载有记录数据的全息图,该设备包括:
光束分裂器,将来自激光源的光束分裂成同轴光束和原盘制造基准光束;
空间光调制器,对该同轴光束进行空间光调制,以产生调制同轴光束,其中预定基准光束和对应于记录数据的信号光束同轴设置;
聚光装置,用于将该调制同轴光束聚光到该复制原盘的记录层;和
全息图形成位置移动装置,用于移动该记录层的位置,在该记录层中由于该原盘制造基准光束和该调制同轴光束之间的干涉而形成全息图,
其中
该复制原盘具有其中记录全息图的记录层以及具有偏振依赖角选择膜,该偏振依赖角选择膜构造成对于预定偏振方向的光束具有足以形成该全息图的透射率而与入射角无关,以及对于偏振方向不同于该预定偏振方向的光束具有根据光束入射角而变化的透射率,并且
将在该预定方向上偏振的该原盘制造基准光束和该调制同轴光束照射到该复制原盘。
3.根据权利要求1或2所述的制造复制原盘的设备,
其中该聚光装置包括物镜和假拟玻璃,并且
该假拟玻璃预先校正复制该复制全息记录介质时所产生的光程差。
4.根据权利要求1或2所述的制造复制原盘的设备,
其中该聚光装置由将该调制同轴光束聚光到该复制原盘的记录层的物镜形成,该物镜具有预先校正复制该复制全息记录介质时所产生的光程差的光程差。
5.根据权利要求1或2所述的制造复制原盘的设备,
其中该全息图形成位置移动装置具有主轴电动机,该主轴电动机使以盘状形成的该复制原盘绕其中心点转动。
6.根据权利要求5所述的制造复制原盘的设备,
其中该原盘制造基准光束的入射方向与该主轴电动机的主轴电动机转动轴的转角同步移动。
7.根据权利要求5所述的制造复制原盘的设备,
其中该原盘制造基准光束的入射方向、棱镜的位置、该调制同轴光束关于光轴的位置以及显示在该空间光调制器上的图像与该主轴电动机的主轴电动机轴的转角同步转动。
8.一种制造复制全息记录介质的设备,其将载有记录数据并且形成在复制原盘上的全息图复制在复制全息记录介质上,该设备包括:
定位装置,将该复制原盘和该复制全息记录介质设置在预定的相对位置;
角选择板,设置在该复制原盘和该复制全息记录介质之间,该角选择板具有角选择膜,其透射率根据光束的入射角而变化;和
复制基准光束产生及照射装置,用于产生复制基准光束,并且以这样的入射角照射该复制基准光束,使得该复制基准光束透射通过该复制原盘记录层的预定区域,并且由该角选择膜反射。
9.一种制造复制全息记录介质的设备,其将载有记录数据并且形成在复制原盘上的全息图复制在复制全息记录介质上,该设备包括:
定位装置,将该复制原盘和该复制全息记录介质设置在预定的相对位置;
偏振依赖角选择板,设置在该复制原盘和该复制全息记录介质之间,并且具有偏振依赖角选择膜,该偏振依赖角选择膜构造成对于具有预定偏振方向的光束具有在该复制全息记录介质上足以形成全息图的透射率而与入射角无关,并且对于偏振方向不同于该预定偏振方向的光束具有根据光束入射角而变化的透射率;和
复制基准光束产生及照射装置,用于产生复制基准光束,并且以这样的入射角照射具有偏振方向不同于该预定偏振方向的该复制基准光束,使得该复制基准光束透射通过该复制原盘记录层的预定区域,并且由该偏振依赖角选择膜反射。
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