[发明专利]一种纳米抑菌蒙脱土及其制备方法

说明书

原申请的申请日为2005.9.27，申请号为200510037525.3，发明名称为抗感染改性蒙脱土及其制备方法

技术领域

本发明涉及一种医用配制品，具体涉及抗感染物质改性蒙脱土及其制备方法。

背景技术

蒙脱土(Montmorillonite)又称膨润土，是一种层状硅酸盐，其分子空间有较大的孔隙，其结构单元是由两个硅氧四面体，中间夹着一个硅氧八面体构成，其化学式为(M+nH₂O)(Al₄-yMgy)Si₈O₂₀(OH)₄(其中M＝Na⁺，Ca²⁺，Mg²⁺等等)，其结构片层是纳米尺度的，其中单元层间距大约1纳米，容易与无机、烷基季铵盐或其他有机阳离子和中性分子进行交换反应生成有机蒙脱土。

《北京理工大学学报》第22卷第2期2002.4.P240～241页刊出了王珂等的一篇题为“有机蒙脱土的制备及其结构表征”的论文，该文中公开了改性后形成的各种纳米蒙脱土的阳离子交换容量有所不同，更有利于对蒙脱土进行有机改性。又有研究者奚利飞将0.2g蒙脱土粉末搅拌下加入20ml 0.1ml/l的NaOH水溶液中，在室温下搅拌1小时，静置过夜，超声分散，再称取0.36g阿昔洛韦粉末放入到60ml蒙脱土悬浮液中反应制得阿昔洛韦/蒙脱土缓释体系(“药物/蒙脱土缓释体系的制备和体外释放的研究”奚利飞天津大学材料科学与工程学院2004.1.P16～29)。研究者奚利飞所制得阿昔洛韦/蒙脱土缓释体系通过蒙脱土控制阿昔洛韦的缓慢释放，且具有一定的定向性，从而提高了药物的生物利用度。正如文中所述，阿昔洛韦和蒙脱土的插层反应实际上是药物分子与蒙脱土片层内的阳离子(如Na⁺、Mg²⁺和Ca²⁺)进行交换，并以形成氢键、配位键或络合等方式插入到蒙脱土片层中。然而抗感染物质的种类繁多，每种药物的化学结构、性质都不同，并非所有的抗感染药物都能插入并锚定到蒙脱土的片层中，因此无法由奚利飞所公开的技术方案推知抗菌药物/蒙脱土缓释体系，更无法预见它的技术效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种纳米抑菌蒙脱土。

本发明的另一目的是提供一种纳米抑菌蒙脱土的制备方法。

本发明纳米抑菌蒙脱土由以下质量份的组分组成：

Na-蒙脱土：100；

抑菌药物：10～45；

其中，所述的抑菌药物是：四环素或强力霉素。

本发明所述的蒙脱土是Na-蒙脱土。Na-蒙脱土可用以下方法制备：将原料蒙脱土(主要含有Na⁺、Ca²⁺、Mg²⁺离子)10份在100～300份的NaCl饱和去离子水溶液中搅拌，形成稳定的悬浮液；悬浮液在30～40℃下搅拌5～6小时；抽滤，然后用去离子水洗涤滤物；滤物在70℃下真空干燥至恒重，球磨至粒径为20～30μm，即得到Na-蒙脱土。

本发明所述的抑菌药物为医学上常用抑菌药物。本发明所述抑菌药物可以是硝酸咪康唑、硝酸益康唑等抗真菌剂；可以是硫酸阿米卡星、庆大霉素等氨基甙类抑菌药物；可以是四环素、强力霉素等四环素类抑菌药物；还可以是喹喏酮类抗菌素以及醋酸洗必泰、利福平。本发明所使用的抑菌药物最好是硝酸咪康唑、醋酸洗必泰、四环素、硫酸阿米卡星其中一种或两种以上。本发明所述的抑菌药物用量(质量份/100质量份Na-蒙脱土)最好是20～45份。

本发明所述的纳米抑菌蒙脱土制备方法是在溶液条件下将抑菌药物插层在蒙脱土中，对蒙脱土进行改性。

本发明所述的纳米抑菌蒙脱土制备方法，包括以下步骤：

将Na-蒙脱土和抑菌药物混合，加入无水乙醇(无水乙醇质量∶Na-蒙脱土质量＝5∶1～20∶1)或去离子水(去离子水质量∶Na-蒙脱土质量＝5∶1～20∶1)或氯仿(氯仿质量∶Na-蒙脱土质量＝5∶1～20∶1)搅拌形成稳定悬浮液，在室温下(或恒温40℃)搅拌2～6小时，过滤，除去无水乙醇或去离子水或氯仿；然后用无水乙醇或去离子水或氯仿洗涤滤物，干燥、球磨，得到粒径为20～30μm的纳米抑菌蒙脱土。

本发明所述的纳米抑菌蒙脱土制备方法中，加入抑菌药物后插层改性时间较好是3～5小时，最好是4小时。

本发明所述的纳米抑菌蒙脱土制备方法中，与Na-蒙脱土形成悬浮液的无水乙醇或去离子水或氯仿质量∶Na-蒙脱土质量最好是8∶1。