[发明专利]数据读出方法、数据读出设备和光盘无效

专利信息
申请号: 200710138151.3 申请日: 2007-07-26
公开(公告)号: CN101114469A 公开(公告)日: 2008-01-30
发明(设计)人: 横井研哉;笠原亮介 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G11B7/005 分类号: G11B7/005;G11B7/125
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 邵亚丽;钱大勇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 数据 读出 方法 设备 光盘
【说明书】:

技术领域

发明涉及数据读出方法、数据读出设备和光盘,具体来说,涉及用于 读出记录在光盘中数据的数据读出方法和数据读出设备、以及在数据读出设 备中使用的光盘。

背景技术

在相关技术中,当读取记录在诸如CD(Compact Disc,压缩盘)、DVD (Digital Versatile Disc,数字多功能盘)、蓝光盘、和HD-DVD的只读光盘 中的数据时,读出功率可以是在检测电路的动态范围内的任意值,并且不存 在对仅由反射层形成的读出层的损害。

另外,在相关技术中,当读取记录在诸如CD-R(CD-可读)、CD-RW (CD-可重写)、DVD-R(DVD-可读)、DVD-RW(DVD-可重写)、DVD+R (DVD+可读)、DVD+RW(DVD+可重写)、和DVD-RAM的可写入光盘中 的数据时,要求使用充分低的读出功率以免消除或者破坏记录层上的标记系 列(mark series)。

此外,在相关技术中,对于该两种类型的光盘中的任何一种,通常可以 通过读出设备任意地调整读出功率。

在最近几年中并且正在继续地需要具有大容量的光盘。迄今为止,已经 提出了各种方法来实现大容量光盘,例如,这些方法中的一种是超分辨率读 出方法。在该超分辨率读出方法中,在光盘上形成比光学系统的衍射极限还 短的标记(mark)和间隔(space)以增加光盘的记录密度和容量。另外,高 功率(high power)的光束被聚集到由相变(phase-change)材料制成的读出 层(这个读出层被称为“超分辨率读出层”)以增加该读出层的光聚集区域部 分的温度,从而改变这个区域的光学特性(光学常数)。因此,可以读出超 过衍射极限的数据。当前,有这样的超分辨率读出能力的光盘正处于被投入 实际应用的过程中。

下面,为了方便,将不超过衍射极限的记录密度称为“通常密度”,并且 将以通常密度记录的数据的读出称为“通常读出”。

下面,说明具有超分辨率读出能力的光盘。

图9A至图9C是示出具有超分辨率读出能力的光盘的配置的例子的示 意性剖面图。

在图9A中示出的光盘具有堆叠层结构,该堆叠层结构包括保护层和在 基底上的读出层。例如,该保护层由ZnS-SiO2构成,而该读出层由如 AgInSbTe的相变材料构成。

在图9B中示出的光盘公开在“Jpn.J.Appl.Phys.,42,pp 995-996(2003)”(在 下文中被称为“参考1”),该光盘具有包括保护层、读出层、和在基底上的记 录层的堆叠层结构。例如,该保护层由ZnS-SiO2构成,该读出层由GeSbTe 构成,而该记录层由AgOx构成。

在图9C中示出的光盘公开在“ISOM Technical Digest,pp 66-67(2004)” (在下文中被称为“参考2”),该光盘具有包括保护层、读出层、和在基底上 的记录层的堆叠层结构。例如,该保护层由ZnS-SiO2构成,该读出层由 GeSbTe构成,而该记录层由PtOx或W-Si构成。

激光束从基底侧或者与基底相对的侧入射在图9A至图9C中的一个所 示的光盘上,以便执行数据记录和数据超分辨率读出。在数据记录操作期间, 激光束以记录功率照射在光盘上,因此在记录层形成记录标记。在记录层上 形成标记的机制取决于介质的材料。例如,对于在图9A中示出的光盘的 AgInSbTe层,通过形状改变来形成记录标记;对于在图9B和图9C中示出 的光盘的AgOx层或者PtOx层,通过生成金属微粒和磁泡来形成记录标记; 对于在图9C中示出的光盘的W-Si层,通过Si和W之间的化学反应来形成 记录标记。因为记录标记只形成在激光光点(spot)内被局部加热的区域, 可以形成比光学系统的衍射极限更短的记录标记。

除了上面的可记录光盘之外,还提出了只读超分辨率读出光盘,通过在 ROM类型的基底上形成上述的读出层来装配该只读超分辨率光盘,该ROM 类型的基底是使用通过深度UV(紫外线)曝光或者EB(电子束)曝光的原版 盘制作获得的模子(stamper)模压形成(mold)的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710138151.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top