[发明专利]用于检查膜缺陷的设备和方法有效

专利信息
申请号: 200710138887.0 申请日: 2007-06-08
公开(公告)号: CN101086483A 公开(公告)日: 2007-12-12
发明(设计)人: 下田一弘 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G01N21/958 分类号: G01N21/958;G02F1/133
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 张成新
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 用于 检查 缺陷 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种用于检测膜缺陷的缺陷检查设备,包括:

在所述膜的两侧放置成形成正交偏振的一对偏光板,所述偏光板平行于所述膜的前表面和后表面,一个所述偏光板的偏光透射轴近似平行于所述膜的慢轴;

光源,所述光源用于通过一个所述偏光板将光线投射到所述膜的一个所述表面上;

放置在与所述光源相对的所述膜的一侧的光线接收器,所述光线接收器首先接收从所述光源投射并透射过所述膜和另一所述偏光板的光线,然后输出与接收的光线相对应的光电信号;和

判断装置,所述判断装置根据来自所述光线接收器的光电信号判断所述膜中是否存在缺陷,

其中当θ1表示在所述光线接收器的光轴与垂直于所述膜的所述表面的法线之间形成的角度,θ2表示在所述光轴与正交于所述膜的所述慢轴的基准线之间形成的旋转角度时,将所述光线接收器定位成满足如下条件:

15°≤θ1≤35°,20°≤θ2≤60°。

2.如权利要求1所述的缺陷检查设备,其中所述膜是正性或负性单轴双折射膜,所述单轴双折射膜的光轴相对于所述法线倾斜。

3.如权利要求1所述的缺陷检查设备,其中所述膜是具有液晶化合物层的正性或负性单轴双折射膜,所述单轴双折射膜的光轴相对于所述法线倾斜。

4.如权利要求3所述的缺陷检查设备,其中所述一对偏光板对具有500nm到750nm波长的光线的平均正交透射率不大于0.027%。

5.如权利要求4所述的缺陷检查设备,其中所述一对偏光板对具有750nm波长的光线的正交透射率不大于0.030%。

6.一种用于检测膜缺陷的缺陷检查设备,所述膜具有形成于其一个表面上的偏光层,所述偏光层的偏光透射轴近似平行于所述膜的慢轴,所述设备包括:

放置在与所述偏光层相对的所述膜的一侧的偏光板,将所述偏光板放置成与所述偏光层形成正交偏振;

光源,所述光源用于将光线投射到所述膜的一个表面上,或者通过所述偏光板将光线投射到所述膜的另一表面上;

放置在与所述光源相对的所述膜的一侧的光线接收器,所述光线接收器首先接收从所述光源投射并透射过所述膜和所述偏光板或者仅仅穿过所述膜的光线,然后输出与接收的光线相对应的光电信号;和

判断装置,所述判断装置用于根据来自所述光线接收器的光电信号判断所述膜中是否存在缺陷,

其中当θ1表示在所述光线接收器的光轴与垂直于所述膜的所述表面的法线之间形成的角度,θ2表示在所述光轴与正交于所述膜的所述慢轴的基准线之间形成的旋转角度时,将所述光线接收器定位成满足如下条件:

15°≤θ1≤35°,20°≤θ2≤60°。

7.如权利要求6所述的缺陷检查设备,其中所述膜是正性或负性单轴双折射膜,所述单轴双折射膜的光轴相对于所述法线倾斜。

8.如权利要求6所述的缺陷检查设备,其中所述膜是具有液晶化合物层的正性或负性单轴双折射膜,所述单轴双折射膜的光轴相对于所述法线倾斜,所述液晶化合物层形成于与所述偏光层相对的所述膜的一侧上。

9.如权利要求8所述的缺陷检查设备,其中所述偏光层和所述偏光板对具有500nm到750nm波长的光线的平均正交透射率不大于0.027%。

10.如权利要求9所述的缺陷检查设备,其中所述偏光层和所述偏光板对具有750nm波长的光线的正交透射率不大于0.030%。

11.如权利要求7所述的缺陷检查设备,其中所述膜是所述负性单轴双折射膜,将所述光线接收器以所述旋转角度θ2放置在与正交投射的所述膜的光轴位于所述膜的所述慢轴的相同侧的区域中。

12.如权利要求7所述的缺陷检查设备,其中所述膜是所述正性单轴双折射膜,将所述光线接收器以所述旋转角度θ2放置在以所述膜的所述慢轴为界位于与正交投射的所述膜的光轴相对的一侧的区域中。

13.如权利要求1所述的缺陷检查设备,其中所述光线接收器包括取像镜头和具有排列成一行的大量光传感器的行式图像传感器,所述行的所述光传感器相对于所述膜的所述慢轴倾斜θ2角度。

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