[发明专利]真空装置、其颗粒监控方法、程序以及颗粒监控用窗口部件无效
申请号: | 200710139134.1 | 申请日: | 2005-03-29 |
公开(公告)号: | CN101082560A | 公开(公告)日: | 2007-12-05 |
发明(设计)人: | 守屋刚;中山博之 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G01N15/00 | 分类号: | G01N15/00;G01N15/02;G01N15/06;B08B9/08 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 装置 颗粒 监控 方法 程序 以及 窗口 部件 | ||
1.一种颗粒监控用窗口部件,由在形成预定空间的框体和监控该框体内的颗粒的颗粒监控装置之间设置的透明基件制成,其特征在于:
所述基件由透明的基座和在与该基座上的所述框体内的气体相对面的面上实施预定处理的表面处理层构成。
2.根据权利要求1所述的窗口部件,其特征在于:
所述表面处理层含有选自碳、钇、氧化钇及氟化钙中的一种材料。
3.根据权利要求2所述的窗口部件,其特征在于:
所述碳由结晶状金刚石或金刚石状碳制成。
4.根据权利要求2或3所述的窗口部件,其特征在于:
所述一种材料,其含有量在所述表面处理层的整个质量中,在10~100质量%的范围内。
5.根据权利要求1所述的窗口部件,其特征在于:
所述表面处理层含有铝或者氧化铝。
6.权利要求5所述的窗口部件,其特征在于:
所述铝或者氧化铝,其含有量在所述表面处理层的整个质量中,在10~100质量%的范围内。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的窗口部件,其特征在于:
所述预定处理为涂敷处理。
8.根据权利要求1~6中任一项所述的窗口部件,其特征在于:
所述预定处理为掺杂处理。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的窗口部件,其特征在于:
所述表面处理层,其厚度在100nm~10μm的范围内。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的窗口部件,其特征在于:
所述基座由以硅为主成分的玻璃制成;
所述表面处理层处于所述框体内的气体所含有的活性分子中。
11.一种颗粒监控用窗口部件,由在形成预定空间的框体和监控该容器内的颗粒的颗粒监控装置之间设置的透明基件制成,其特征在于:
所述基件由氟化钙制成。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的窗口部件,其特征在于:
所述框体由容器或者配管制成。
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