[发明专利]一种修饰钯电极的制备方法无效
申请号: | 200710139432.0 | 申请日: | 2007-09-13 |
公开(公告)号: | CN101122574A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 张利琴;谭雪荣;乔洁;李忠平;董川 | 申请(专利权)人: | 山西大学 |
主分类号: | G01N27/30 | 分类号: | G01N27/30 |
代理公司: | 山西五维专利事务所有限公司 | 代理人: | 杨耀田 |
地址: | 030006*** | 国省代码: | 山西;14 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 修饰 电极 制备 方法 | ||
1.一种修饰钯电极的制备方法,其特征在于依次包括以下步骤:
(1)将钯电极表面抛光成镜面,然后超声清洗,并用高纯氮气吹干备用;
(2)将步骤(1)处理好的钯电极在氯化钯盐酸水溶液中浸泡20-50min,取出,用二次蒸馏水冲洗,高纯氮气吹干,备用;
(3)将步骤(2)处理好的钯电极置于支持电解液中,在0~1.5V电压范围内,以100mVs-1的速度循环伏安扫描直至稳定,然后用二次蒸馏水冲洗干净,高纯氮气吹干,即制得修饰钯电极;
所述的支持电解液是高氯酸,其浓度为0.5mol/L;
所述的氯化钯盐酸水溶液中氯化钯浓度为1-3mmol/L、盐酸浓度为0.5-3mol/L。
2.根据权利1所述的修饰钯电极的制备方法,其特征在于所述的氯化钯盐酸水溶液中氯化钯浓度为1-2mmol/L、盐酸浓度为2-3mol/L。
3.根据权利1所述的修饰钯电极的制备方法,其特征在于所述的电极在氯化钯盐酸水溶液中浸泡时间为30-50min。
4.根据权利1所述的修饰钯电极的制备方法,其特征在于所述制备过程是在室温下进行。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西大学,未经山西大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710139432.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:制备接触透镜的方法
- 下一篇:重压延多组分片材及由其形成的多层层压材料和包装