[发明专利]液滴喷头及其制造方法、液滴喷出装置及其制造方法无效
申请号: | 200710141079.X | 申请日: | 2007-08-16 |
公开(公告)号: | CN101125480A | 公开(公告)日: | 2008-02-20 |
发明(设计)人: | 大谷和史;荒川克治 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14;B41J2/16;B41J2/045 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷头 及其 制造 方法 喷出 装置 | ||
1.一种液滴喷头,其至少具备:喷嘴基板,其具有多个喷嘴孔;腔基板,其具有与所述各喷嘴孔连通,使室内产生压力并从所述喷嘴孔喷出液滴的多个独立的喷出室;贮存室基板,其具有作为相对所述喷出室共用连通的贮存室的贮存室凹部,且设置于所述喷嘴基板和所述腔基板之间,
所述液滴喷头的特征在于,
具有树脂薄膜,所述树脂薄膜不是形成在所述贮存室基板与所述喷嘴基板或者所述腔基板的各粘接面上,而是通过成膜形成在所述贮存室凹部的内面整体上,所述贮存室凹部的底面是由所述树脂薄膜构成的缓冲压力变动的隔膜部。
2.如权利要求1所述的液滴喷头,其特征在于,在所述贮存室基板中与构成所述贮存室凹部的底面的所述树脂薄膜部分的所述贮存室凹部相反侧为从与所述贮存室凹部的形成面相反侧的表面掘入至隔膜部而形成的空间部。
3.如权利要求1或2所述的液滴喷头,其特征在于,所述树脂薄膜由聚对亚苯基二甲基构成。
4.如权利要求2或3所述的液滴喷头,其特征在于,在所述树脂薄膜的基底形成有金属薄膜。
5.如权利要求4所述的液滴喷头,其特征在于,所述金属薄膜为铂膜。
6.如权利要求2~5中任一项所述的液滴喷头,其特征在于,所述空间部设置在所述贮存室基板与所述腔基板的粘接面侧。
7.如权利要求2~5中任一项所述的液滴喷头,其特征在于,所述空间部设置在所述贮存室基板与所述喷嘴基板的粘接面侧。
8.一种液滴喷出装置,其特征在于,具备权利要求1~7中任一项所述的液滴喷头。
9.一种液滴喷头的制造方法,该液滴喷头至少具备:喷嘴基板,其具有多个喷嘴孔;腔基板,其具有与所述各喷嘴孔连通,使室内产生压力并从所述喷嘴孔喷出液滴的多个独立的喷出室;贮存室基板,其具有相对所述喷出室共用连通的贮存室,且设置于所述喷嘴基板和所述腔基板之间,且在所述贮存室的底面设有具备缓冲压力变动的树脂薄膜的隔膜部,
所述液滴喷头的制造方法的特征在于,包括:
从构成所述贮存室基板的硅基体材料的一个面利用湿式蚀刻形成作为所述贮存室的贮存室凹部的工序;
将所述硅基体材料的一个面和与该一个面相反侧的面中所述贮存室凹部的开口部以外的表面用掩模部件覆盖,并对所述贮存室凹部的内面整体形成树脂薄膜的工序;
除去所述掩模部件的工序;
利用干式蚀刻从所述相反侧的面除去所述硅基体材料直至所述树脂薄膜露出,从而形成所述隔膜部的工序。
10.如权利要求9所述的液滴喷头的制造方法,其特征在于,形成所述树脂薄膜的工序为蒸镀聚对亚苯基二甲基的工序。
11.如权利要求10所述的液滴喷头的制造方法,其特征在于,覆盖所述硅基体材料的所述一个面侧的掩模部件只在与所述贮存室凹部的开口部对置的位置具有开口,该开口比所述贮存室凹部的开口部小。
12.如权利要求10或11所述的液滴喷头的制造方法,其特征在于,在将所述聚对亚苯基二甲基成膜之前,形成金属薄膜作为基底膜。
13.如权利要求12所述的液滴喷头的制造方法,其特征在于,形成所述金属薄膜的工序为溅射铂的工序。
14.如权利要求10~13中任一项所述的液滴喷头的制造方法,其特征在于,用氧等离子体对所述聚对亚苯基二甲基薄膜的表面进行亲水化处理。
15.如权利要求10~14中任一项所述的液滴喷头的制造方法,其特征在于,在形成所述隔膜部时的所述干式蚀刻中,使用SF5等离子体。
16.一种液滴喷出装置的制造方法,其特征在于,应用权利要求9~15中任一项所述的液滴喷头的制造方法来制造液滴喷出装置。
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