[发明专利]阳离子改性半乳甘露聚糖和含有该物质的化妆材料组合物

权利要求书

1.含有阳离子改性半乳甘露聚糖的化妆材料组合物，其中阳离子改性半乳甘露聚糖为在非离子性多糖类中，以甘露糖为结构单元的主链上形成了半乳糖单元侧链，甘露糖与半乳糖的组成比为1∶1的半乳甘露聚糖中，该半乳甘露聚糖所含的羟基的一部分被下述化学式(1)所示的含季氮原子的基团取代的阳离子改性多糖类，并且由该含有季氮原子的基团带来的阳离子电荷量为0.1～3.0meq/g，

化学式(1)

式中，R₁，R₂各自为碳原子数为1～3的烷基，R₃表示碳原子数为1～24的烷基，X^-表示阴离子；n＝0或n＝1～30，当n＝1～30时，(R₄O)_n为碳原子数为2～4的烯化氧聚合物残基，表示由单一烯化氧形成的聚烷撑二醇链和/或由两种以上的烯化氧形成的聚烷撑二醇链。

2.权利要求1所述的化妆材料组合物，其中上述甘露糖与半乳糖的组成比为1∶1的半乳甘露聚糖是由豆科植物胡芦巴(学名Trigonella foenum-graecum)的种子胚乳部分得到的天然水溶性胶。

3.权利要求1或2所述的化妆材料组合物，其中上述阳离子改性半乳甘露聚糖的阳离子改性是使用缩水甘油基三烷基铵盐或3-卤-2-羟丙基三烷基铵盐来进行的。

4.权利要求1或2所述的化妆材料组合物，其中上述阳离子改性半乳甘露聚糖的阳离子改性是通过在该半乳甘露聚糖所含的部分羟基上加成碳原子数为2～4的烯化氧，接着用作为阳离子改性剂的缩水甘油基三烷基铵盐或3-卤-2-羟丙基三烷基铵盐实施的。

5.权利要求1～4任一项所述的化妆材料组合物，其中将全部组合物作为100质量％时，上述阳离子改性半乳甘露聚糖的含量为0.05～5质量％。

6.权利要求1～5任一项所述的化妆材料组合物，其特征在于，将全部组合物作为100质量％时，还含有5质量％以下的其他阳离子性水溶性高分子和/或两性水溶性高分子。

7.权利要求1～6任一项所述的化妆材料组合物，其特征在于，还含有酰胺胺化合物和有机酸和/或无机酸等中和剂，以及高级脂肪酸和/或高级醇。

8.权利要求1～7任一项所述的化妆材料组合物，其特征在于还含有聚硅氧烷和/或聚硅氧烷衍生物。

9.权利要求1～8任一项所述的化妆材料组合物，其特征在于上述化妆材料组合物为毛发处理用组合物。