[发明专利]表面具有凹凸的膜和防止反射膜及其制造方法和光学构件

权利要求书

1.一种具有以氧化铝为主要成分的微细凹凸和支撑上述微细凹凸的薄膜层的膜，其特征在于：

上述薄膜层含有从氧化锆、氧化硅、氧化钛、氧化锌中选择出的至少1种。

2.如权利要求1中所述的膜，其特征在于：

上述以氧化铝为主要成分的微细凹凸的高度为0.005～5.0μm。

3.如权利要求1中所述的膜，其特征在于：

对具有上述以氧化铝为主要成分的微细凹凸的膜的中心线平均粗糙度进行面扩展后得到的平均面粗糙度Ra’大于等于5nm，而且表面积比Sr＝S/S₀大于等于1.1，其中，S₀表示测定面在理想情况下为平面时的面积，S表示实际的测定面的表面积。

4.如权利要求1中所述的膜，其特征在于：

上述薄膜层中含有的从氧化锆、氧化硅、氧化钛、氧化锌中选择的至少1种的含有量，相对于膜重量按重量比为大于等于0.001小于1.0。

5.一种如权利要求1中所述的膜的制造方法，其特征在于：

对使用涂敷液进行了制膜的多成分膜进行温水处理，其中，上述涂敷液至少包含从锆、硅、钛和锌的化合物中选择的至少1种化合物和铝化合物。

6.一种具有以氧化铝为主要成分的微细凹凸和支撑上述微细凹凸的透明薄膜层的透明防止反射膜，其特征在于：

上述透明薄膜层含有从氧化锆、氧化硅、氧化钛、氧化锌中选择出的至少1种。

7.如权利要求6中所述的透明防止反射膜，其特征在于：

上述以氧化铝为主要成分的微细凹凸的高度为0.005～5.0μm。

8.如权利要求6中所述的透明防止反射膜，其特征在于：

对具有上述以氧化铝为主要成分的微细凹凸的膜的中心线平均粗糙度进行面扩展后得到的平均面粗糙度Ra’大于等于5nm，而且表面积比Sr＝S/S₀大于等于1.1，其中，S₀表示测定面在理想情况下为平面时的面积，S表示实际的测定面的表面积。

9.如权利要求6中所述的透明防止反射膜，其特征在于：

上述透明薄膜层中含有的从氧化锆、氧化硅、氧化钛、氧化锌中选择的至少1种的含有量，相对于膜重量按重量比为大于等于0.001小于1.0。

10.一种如权利要求6中所述的透明防止反射膜的制造方法，其特征在于：

对使用涂敷液进行了制膜的多成分膜进行温水处理，其中，上述涂敷液至少包含从锆、硅、钛和锌的化合物中选择的至少1种化合物和铝化合物。

11.一种光学构件，其特征在于：

具有权利要求6中所述的透明防止反射膜。

12.一种光学系统，其特征在于：

具有权利要求11中所述的光学构件。

13.如权利要求12中所述的光学系统，其特征在于：

上述光学系统是摄像光学系统。

14.如权利要求12中所述的光学系统，其特征在于：

上述光学系统是观察光学系统。

15.如权利要求12中所述的光学系统，其特征在于：

上述光学系统是投影光学系统。

16.如权利要求12中所述的光学系统，其特征在于：

上述光学系统是扫描光学系统。