[发明专利]塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法及其影像撷取组件

权利要求书

1.一种塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法，其特征在于，在塑料制光学组件表面真空蒸镀多层滤光薄膜，该多层滤光薄膜包含多数高折射率薄膜及多数低折射率薄膜，且使高折射率薄膜及低折射率薄膜彼此交叉层迭。

2.如权利要求1所述的塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法，其特征在于，所述高折射率薄膜或低折射率薄膜蒸镀时，其蒸发源与该塑料制光学组件的蒸镀距离需保持100公分以上。

3.如权利要求1所述的塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法，其特征在于，该高折射率薄膜或低折射率薄膜真空蒸镀后静置一至四分钟。

4.如权利要求3所述的塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法，其特征在于，该高折射率薄膜或低折射率薄膜是采用真空蒸镀设备进行蒸镀，且该真空蒸镀设备施以25℃以下的冷却水。

5.如权利要求3所述的塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法，其特征在于，该高折射率薄膜或低折射率薄膜各层蒸镀时间扣除静置时间后，控制于4分钟之内。

6.如权利要求1所述的塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法，其特征在于，该高折射率薄膜及低折射率薄膜交叉层迭达到40层以上。

7.如权利要求1所述的塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法，其特征在于，该高折射率薄膜及低折射率薄膜真空蒸镀时该塑料制光学组件温度不超过80℃。

8.如权利要求1所述的塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法，其特征在于，蒸镀作业时该塑料制光学组件施以离子助镀。

9.如权利要求1所述的塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法，其特征在于，该高折射率薄膜及低折射率薄膜分别采用Ti₃O₅及SiO₂镀膜材料。

10.如权利要求1所述的塑料制光学组件的多层膜真空蒸镀方法，其特征在于，该高折射率薄膜及低折射率薄膜分别采用Nb₂O₅及SiO₂镀膜材料。

11.一种塑料制光学组件的多层膜影像撷取组件结构，其特征在于，包含有：

一塑料制光学组件，位于光学影像撷取组件中；以及

一多层滤光薄膜，该多层滤光薄膜包含高折射率薄膜及低折射率薄膜，且该高折射率薄膜及低折射率薄膜彼此交叉层迭蒸镀在该塑料制光学组件表面。

12.如权利要求11所述的塑料制光学组件的多层膜影像撷取组件结构，其特征在于，该多层滤光薄膜的高折射率薄膜及低折射率薄膜彼此交叉层迭达到40层至60层之间。

13.如权利要求11所述的塑料制光学组件的多层膜影像撷取组件结构，其特征在于，该多层滤光薄膜的高折射率薄膜的折射率大于2.0；该多层滤光薄膜的低折射率薄膜的折射率小于1.5。

14.如权利要求11所述的塑料制光学组件的多层膜影像撷取组件结构，其特征在于，该塑料制光学组件的表面可以为平面或曲面。

15.如权利要求11所述的塑料制光学组件的多层膜影像撷取组件结构，其特征在于，该塑料制光学组件位于光学影像撷取组件的外侧。

16.如权利要求11所述的塑料制光学组件的多层膜影像撷取组件结构，其特征在于，该塑料制光学组件位于光学影像撷取组件的中间。