[发明专利]图像形成装置和图像形成方法有效

专利信息
申请号: 200710142145.5 申请日: 2007-04-04
公开(公告)号: CN101114144A 公开(公告)日: 2008-01-30
发明(设计)人: 高田毅;池上孝彰 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G03G15/00 分类号: G03G15/00;G03G9/08;G03G5/06;G03G15/16;G03G21/18;G03G13/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋莉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 形成 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种图像形成装置,至少包括:电子照相感光体、在该电子照相感光体上形成静电潜像的静电潜像形成装置、使用调色剂将上述静电潜像显影而形成可视图像的显影装置、将上述可视图像转印到记录介质上的转印装置、和使转印到上述记录介质上的转印图像定影的定影装置,其中,

上述电子照相感光体的最表面层的玻璃化转变温度为100℃以上,

上述调色剂如下获得:使调色剂材料溶解或分散在有机溶剂中,所述调色剂材料至少包含含有活泼氢基团的化合物和能够与该含有活泼氢基团的化合物反应的聚合物,再将形成的溶液或分散液乳化或分散在包含树脂微粒的水系介质中,在该水系介质中使上述含有活泼氢基团的化合物和上述聚合物反应,并除去上述有机溶剂,并且上述树脂微粒的玻璃化转变温度为65℃~85℃。

2.权利要求1所述的图像形成装置,其中,电子照相感光体的最表面层含有下述结构式(1)表示的化合物,

结构式(1)

上述结构式(1)中,R1、R2、R3和R4可以彼此相同也可以不同,表示取代或未取代的烷基和取代或未取代的芳基的任意一个;Ar1和Ar3可以彼此相同也可以不同,表示取代或未取代的芳基;Ar2表示取代或未取代的二价杂环基团和取代或未取代的芳香烃二价基团的任意一个。

3.权利要求1中所述的图像形成装置,其中,电子照相感光体的最表面层含有下述结构式(2)表示的化合物,

结构式(2)

上述结构式(2)中,R5表示取代或未取代的烷基和取代或未取代的芳基的任意一个;R6和R7可以彼此相同也可以不同,表示氢原子、取代或未取代的烷基和取代或未取代的芳基的任意一个;Ar4和Ar5可以彼此相同也可以不同,表示取代或未取代的芳基。

4.权利要求1所述的图像形成装置,其中,电子照相感光体的最表面层含有下述结构式(3)表示的化合物,

结构式(3)

上述结构式(3)中,R8~R11可以彼此相同也可以不同,表示可以具有芳基作为取代基的烷基。

5.权利要求1所述的图像形成装置,其中,电子照相感光体包括支持体,并且在该支持体上至少依次具有电荷产生层和电荷输送层,上述电荷输送层是最表面层。

6.权利要求1所述的图像形成装置,其中,图像形成装置是排列多个图像形成元件的串联型装置,所述图像形成元件至少包括电子照相感光体、使该电子照相感光体表面带电的带电装置、显影装置和转印装置。

7.权利要求1所述的图像形成装置,其中,图像形成装置包括:将形成在电子照相感光体上的可视图像进行一次转印的中间转印体、和将担载在该中间转印体上的可视图像二次转印到记录介质上的转印装置,在上述中间转印体上依次重叠多种颜色的调色剂图像而形成彩色图像,并将该彩色图像一次性地二次转印到上述记录介质上。

8.权利要求1所述的图像形成装置,其中,图像形成装置具有能够拆装的处理盒,该处理盒至少具有电子照相感光体、和使用调色剂将形成在该电子照相感光体上的静电潜像显影而形成可视图像的显影装置。

9.一种图像形成方法,至少包括:在电子照相感光体上形成静电潜像的静电潜像形成工序、使用调色剂显影该静电潜像而形成可视图像的显影工序、将上述可视图像转印到记录介质上的转印工序、使转印到上述记录介质上的转印图像定影的定影工序,其中,

上述电子照相感光体的最表面层的玻璃化转变温度为100℃以上,

上述调色剂如下获得:使调色剂材料溶解或分散在有机溶剂中,所述调色剂材料至少包含含有活泼氢基团的化合物和能够与该含有活泼氢基团的化合物反应的聚合物,再将形成的溶液或分散液乳化或分散在包含树脂微粒的水系介质中,在该水系介质中使上述含有活泼氢基团的化合物和上述聚合物反应,并除去上述有机溶剂,并且上述树脂微粒的玻璃化转变温度为65℃~85℃。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710142145.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top