[发明专利]氧基五氟硫酸盐合成物和制备它们的方法

说明书

技术领域

本发明涉及新颖的氧基五氟硫酸盐合成物，和制备所述合成物的方法。

背景技术

当前，文献中已经鉴定了两种含有OSF₅阴离子的化合物。第一种化合物CsOSF₅，公开于，例如Lustig等人，“Studies Involving Some Nonmetal Oxy-andThiofluoride Salts”，Inorg.Chem.，6，2115(1967)；和Christe等人，“VibrationalSpectrum and Force Constants of the SF₅O^-Anion”，Inorg.Chem.，12，620(1973)中。CsOSF₅是一种微溶或者不溶于普通有机溶剂的无机盐。由于它的不溶性，因此该化合物自身不能在取代反应中用作OSF₅阴离子源。第二种化合物是(Me₂N)₃S^+-OSF₅，公开于例如Mews等人，Hexa-coordinated sulfur(VI)anions，Chem.Ber.122(1989)427-432中。第二种化合物虽然溶于普通有机溶剂中，但是该化合物并未表明是一种有效的亲核OSF₅源。

据此，期望提供可以充分溶于普通有机溶剂中，从而适用于亲核取代反应中的含有氧基五氟硫酸盐阴离子的新颖合成物。进一步希望提供通过所述反应形成的新产品。

所有在此引用的参考文献的全部内容都在此引入作为参考。

发明内容

据此，本发明的第一方面包括含有式YOSF₅或者ZOSF₅所表示的化合物的合成物，其中：

(a)Y为：(i)非(Me₂N)₃S⁺的有机阳离子，或者(ii)无机阳离子，条件是当Y为无机阳离子时，所述合成物进一步包括配位剂；和

(b)Z选自C_1-20烷基、芳基、环烷基、其组合及其含有至少一个杂原子的类似物，条件是由式ZOSF₅表示的化合物是分子化合物。

本发明的第二方面包括由式YOSF₅表示的合成物，其中Y为非(Me₂N)₃S⁺的有机阳离子。

本发明的第三方面包括式ZOSF₅表示的合成物，其中Z为C_1-20烷基、芳基、环烷基、其组合及其含有至少一个杂原子的类似物，其中所述合成物为分子化合物。

本发明的第四方面包括含有以下的合成物：(a)式YOSF₅表示的化合物，其中Y为无机阳离子；和(b)配位剂。

本发明的第五方面包括提供本发明第三方面的合成物的方法，所述方法包括：

提供式Y^+-OSF₅表示的试剂，其中Y为有机阳离子；

提供式ZL表示的底物，其中L为离去基团；

将所述试剂和底物混合在溶剂中；和

用OSF₅替换离去基团，从而提供ZOSF₅。

本发明的第六方面包括提供本发明第三方面的合成物的方法，所述方法包括：

提供式Y^+-OSF₅表示的试剂，其中Y为无机阳离子；

提供配位剂；

提供式ZL表示的底物，其中L为离去基团；

将所述试剂、配位剂和底物混合在溶剂中；和

用OSF₅取代离去基团，从而提供ZOSF₅。

本发明的第七方面包括提供本发明第一方面的合成物的方法，其中Y为有机阳离子，所述方法包括：

提供式YF表示的试剂；和

使该试剂与SOF₄在溶剂中反应，从而提供YOSF₅。

本发明的第八方面包括提供本发明第一方面的合成物的方法，其中Y为无机阳离子和所述合成物进一步包括配位剂，所述方法包括：

提供式YF表示的试剂；和使该试剂与SOF₄在溶剂中反应，从而提供YOSF₅，